Occasion DNS / DAINIPPON 80B #9257028 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80B est un équipement de photorésistance spécialement conçu pour être utilisé dans l'industrie des imprimés/semi-conducteurs. Ce système est une unité à base de solvant et un développement de matériaux avancés en lithographie qui peut être utilisé pour les photorésistes négatifs et positifs. La photorésist de DNS 80B est constituée de deux composants, une résine de polystyrène et un monomère. La résine polystyrène provient d'un monomère 100 % styrène, tandis que le monomère est constitué de styrène modifié avec un matériau halogène. Avec ces deux composants, les propriétés mécaniques et chimiques du matériau peuvent être personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application. Les composants de la combinaison photorésist effectuent deux tâches importantes lorsqu'ils sont exposés à la lumière. Tout d'abord, la résine polystyrène absorbe l'énergie de l'exposition (lumière) et accumule la réticulation des chaînes. Ceci provoque un durcissement de la résine photosensible et crée le motif désiré qui est imprimé sur le substrat. Le monomère dans la résine photosensible est responsable d'une propriété différente. Lorsqu'il est exposé à la lumière UV, il subit une réaction de polymérisation créant un réseau polymère complexe très résistant aux acides destructeurs, alcalins et autres solvants. Ceci assure la stabilité de la résine photosensible lorsqu'elle est exposée aux procédés de gravure et de nettoyage de base utilisés dans le procédé de fabrication des semi-conducteurs. La machine DAINIPPON 80B est non seulement unique en raison de sa structure en polymère à deux composants, mais aussi en raison de sa capacité à former des films. Il est très conforme à tout type de substrat, comme le cuivre, le tungstène et le palladium. L'outil peut être formé de couches de films souples et élastiques avec une excellente adhérence sur le substrat. En outre, cet actif est très résistant aux liquides et solvants photorésistants courants. De plus, 80B est également une photorésist respectueuse de l'environnement. Il a été conçu pour répondre aux exigences strictes de sécurité environnementale posées par le ministère japonais de l'Environnement, avec des émissions de COV inférieures à 30ppm. Ce modèle répond à toutes les exigences du laboratoire et est approuvé par l'Union européenne pour certains processus. Dans l'ensemble, l'équipement photorésist DNS/DAINIPPON 80B est un développement de matériaux avancés dans la lithographie, offrant des performances optiques supérieures, une excellente adhérence et des propriétés optiques du film, et des caractéristiques respectueuses de l'environnement. Ce système offre d'excellentes propriétés de photorésist pour des applications exigeantes de semi-conducteurs et peut produire une large gamme d'images sur une variété de substrats.