Occasion DNS / DAINIPPON 80B #9400647 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80B est un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et conçu pour la résistance de haute qualité des dispositifs. C'est un système sophistiqué qui permet de contrôler avec précision l'exposition et le développement de couches de photorésist sur des substrats spécifiques. DNS 80B Photoresist Unit utilise une source laser pulsée, un ensemble précis de technologies de masquage et de développement, et une application de chauffage de substrat pour produire des résultats optimaux. La machine est capable de modeler des substrats jusqu'à six pouces de diamètre avec une résolution précise aussi faible que 10 microns de largeur. L'outil offre également des caractéristiques uniques qui supportent un alignement précis de la couche de photorésist sur le substrat, ainsi qu'une exposition contrôlée de la photorésist sans nuire au substrat. Pour commencer le procédé, le substrat doit être nettoyé et traité avant l'application de la résine photosensible. Après la préparation du substrat, les étapes de masquage ont lieu pour former le motif désiré. La source laser de DAINIPPON 80B applique la quantité précise d'énergie lumineuse sur le substrat sélectionné, chauffant et durcissant les couches de photorésist et créant des niveaux détaillés de tassement au sein de la photorésist. La photolithographie commence une fois la source laser déclenchée et ajustée. Les zones du substrat exposées à la source lumineuse auront durci, tandis que les zones cachées avec le photomasque resteront douces. Une fois la photorésist développée, les zones de photorésist douces et dures sont exposées, ce qui permet de la graver dans différentes parties du substrat. L'application de chauffage dans l'actif agit comme un processus post-développement. Il favorise la précision lors de la gravure de la résine photosensible, ainsi que la protection du matériau du substrat. Il permet également d'éliminer complètement toutes les zones de photorésist indésirables avant que le dispositif ne soit prêt à passer à l'étape suivante de fabrication. 80B est un outil puissant et précis pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Sa source laser, son masquage précis et ses capacités de chauffage des substrats en font un modèle idéal pour obtenir une grande précision dans le processus de photorésistance. Il s'agit d'un élément essentiel dans le développement de dispositifs électroniques avancés et continue d'être une technologie importante pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.