Occasion DNS / DAINIPPON 80BW #182508 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80BW est un équipement de photorésistance positive haute résolution conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs 7.5K et 10K. Le système est doté d'une résistance positive à base de polymère avancée, optimisée pour produire un contrôle de dimension critique (CD) supérieur et des surfaces à faible rugosité. Il est spécialement conçu pour assurer la plus haute performance pour le façonnage aux résolutions les plus difficiles. L'unité est composée de trois composants : le matériau résineux, la solution de revêtement photorésist et la solution de développement. Le matériau résiste est une formulation exclusive de polymères avancés qui offrent une résolution, une rugosité et une sensibilité supérieures. La solution de revêtement photorésist est conçue pour appliquer un revêtement uniforme du matériau résineux. Cette solution de revêtement photorésist est formulée pour appliquer la résine physiquement épaisse en une couche uniforme sur le substrat cible, permettant une résolution la plus élevée possible lors de la mise en oeuvre. La solution de développement est formulée pour éliminer rapidement et complètement le matériau photorésistant de la zone désirée, tout en minimisant les dommages au substrat sous-jacent. La solution de développement est optimisée pour fournir une résolution de motif supérieure, des temps de cycle courts et un résidu minimal à la fin du processus de développement. La machine est plus performante lorsqu'elle est utilisée en combinaison avec des systèmes d'exposition optique de pointe, des outils précis et reproductibles et des procédés en salle blanche. Ensemble, ces composants créent des systèmes photorésistants complets avec une rugosité de bord supérieure, des dimensions précises et répétables, une résolution de ligne supérieure et un temps de développement réduit. En conclusion, DNS 80BW est un outil avancé de photorésistance positive conçu pour les processus lithographiques les plus difficiles. L'actif offre un contrôle supérieur des dimensions critiques, des surfaces de substrat à faible rugosité et des temps de développement réduits. En outre, lorsqu'il est utilisé en combinaison avec des systèmes d'exposition optique de pointe et des procédés de salle blanche, le modèle est capable de produire une résolution de motif supérieure avec un minimum de résidus.