Occasion DNS / DAINIPPON KSPIN8 #183822 à vendre en France

DNS/DAINIPPON KSPIN8 est un équipement photorésist de haute précision utilisé pour le traitement avancé des substrats. Il a la capacité unique de mélanger des composants organiques et inorganiques tels que la résine et le métal pour créer des motifs photolithographiques. Le système utilise une combinaison de processus tels que la lithographie, le dépôt et la gravure pour créer des modèles extrêmement précis et complexes. Le procédé photolithographique commence par un substrat, typiquement une plaquette, qui est revêtu d'un polymère sensible à la lumière appelé « photorésist ». Cette résine photosensible est ensuite exposée à une source lumineuse, généralement une puissante lumière ultraviolette (UV), qui provoque une réaction chimique au sein du polymère. Le motif qui est créé est ensuite développé à l'aide d'une série de bains chimiques, ce qui élimine une partie de la résine photosensible dans des zones désignées. Enfin, le motif créé est transféré sur la plaquette à l'aide d'une série de procédés de gravure et des couches de matériau supplémentaires peuvent être ajoutées si nécessaire. L'unité photorésist DNS KSPIN8 permet aux utilisateurs de produire des motifs extrêmement précis et complexes. La machine offre de nombreux avantages par rapport à d'autres procédés photolithographiques, tels que des mesures plus précises, un débit plus élevé et une utilisation extrêmement conviviale. Il est également capable de débiter des zones d'exposition à grande échelle et peut effectuer un traitement parallèle à grande échelle. Il est adapté à une variété d'applications, y compris la microélectronique, les systèmes de stockage de données et les écrans. La haute qualité des motifs créés par l'outil permet la production d'interconnexions haute densité, qui sont essentielles pour la génération de systèmes avancés. De plus, la capacité unique de DAINIPPON KSPIN8 à mélanger des composants organiques et inorganiques permet la production de conceptions très innovantes. Dans l'ensemble, KSPIN8 est un actif photorésist exquis idéal pour le traitement avancé des substrats et capable de fournir précision et débit élevé. Sa capacité unique à mélanger des composants organiques et inorganiques permet la production de conceptions très innovantes, ce qui en fait un excellent choix pour une variété d'applications.