Occasion DNS / DAINIPPON RF3 #9213798 à vendre en France

DNS/DAINIPPON RF3 est un équipement de photorésistance de précision basé sur l'utilisation de nitrocellulose, de chrome et d'un matériau photosensible très sensible. Ce matériau, appelé DNS RF3, est un mélange exclusif de résine développé par DNS au Japon. Une fois exposé à la lumière, DAINIPPON RF3 développe une couche durcie sur le substrat qui peut ensuite être utilisée pour contrôler la résolution, les largeurs de lignes et les rapports d'aspect sur les dispositifs nanométriques. RF3 système fournit un moyen économique et précis de créer des motifs de photolithographie nano-échelle sur des structures complexes. L'unité est constituée d'une combinaison de résine DNS/DAINIPPON RF3, de chrome et d'un matériau photosensible déposé sur un substrat. Le matériau photosensibilisant absorbe l'énergie lumineuse du faisceau d'exposition et la réaction résultante avec le DNS RF3 se traduit par une couche de matériau durci. Cette couche durcie peut être gravée dans un motif particulier pour donner la conception requise. La machine nécessite également l'utilisation d'une micro-imprimante à contact et d'un alignement de masque de précision. L'imprimante à contact est utilisée pour préparer le substrat de la résine photosensible en déposant le matériau chrome et DAINIPPON RF3 dans la bonne disposition et dans les bonnes zones. L'aligneur de masque est alors utilisé pour positionner un photomasque contenant le motif désiré pour être exposé au faisceau lumineux. Après exposition du substrat, on développe la résine photosensible qui est le processus d'élimination de zones de matériau durci pour créer un motif. L'avantage d'outil RF3 consiste en ce qu'il fournit la lithographie de précision lors d'une fraction du prix comparé aux systèmes de lithographie optiques traditionnels. Sans se limiter à la production de dispositifs nanométriques, c'est dans ce domaine que cet atout a été prouvé pour offrir d'excellents résultats. Le modèle est également relativement simple à utiliser et peut être utilisé dans un large éventail d'applications, y compris les systèmes micromécaniques, l'électronique imprimée, les écrans et l'optique d'imagerie. En conclusion, l'équipement DNS/DAINIPPON RF3 offre un moyen économique et précis de créer des modèles de photolithographie à l'échelle nanométrique sur des structures complexes. Le procédé est relativement simple, et les avantages du système sont qu'il peut être utilisé avec précision pour un large éventail d'applications.