Occasion DNS / DAINIPPON RF3 #9360860 à vendre en France

DNS/DAINIPPON RF3 est un équipement de photorésistance de pointe, développé et fabriqué par DNS Inc., un chef de file dans le domaine de la technologie des photomasques. Le système a été conçu pour fournir les meilleurs résultats en termes de résolution, de largeur de ligne et de contraste, tout en offrant des performances supérieures en termes de productivité élevée et d'impact environnemental faible. Cette unité de photorésistance est composée de quatre composants principaux, à savoir : 1. Photorésist Coater : Le photorésist Coater est la première étape de la machine et est utilisé pour enrober uniformément le substrat photomasque avec de la photorésist. Le revêtement comporte une vitesse variable du disque, un mandrin sous vide et une fonction de changement rapide en option qui permet à l'utilisateur de passer rapidement et facilement entre différentes formulations photorésistantes. 2. Module d'exposition : Le module d'exposition est la deuxième étape de l'outil et est utilisé pour exposer le substrat photomasque avec de la lumière. Il dispose d'un laser haute énergie, qui est capable d'exposer une seule section de la photomasque à la fois et dispose d'une taille de faisceau variable et de capacités de focalisation automatique pour une résolution améliorée. 3. Post-Exposure Bake/Burn-off Module : Ce module est la troisième étape de l'actif et dispose d'une lampe perméable pour le four post-exposition. Ce module peut également être utilisé pour brûler la résine photosensible, si désiré. 4. Module de développement : Le module de développement est la dernière étape du modèle et est utilisé pour éliminer la photorésist exposée du substrat photomasque. Il est doté d'une conception fluo-passante qui permet un développement cohérent et régulier dans tout le substrat photomasque. Dans l'ensemble, l'équipement photorésist DNS RF3 a été conçu pour fournir une précision, une résolution et un contraste supérieurs, tout en offrant des performances améliorées à une échelle de production élevée. C'est une solution efficace et rentable pour ceux qui cherchent à produire des photomasques lithographiques avec facilité et précision.