Occasion DNS / DAINIPPON RF3 #9360865 à vendre en France

DNS/DAINIPPON RF3 est un équipement de haute performance, sans halogène, capable de photorésistance positive analogique créé par DNS Screen Mfg. Co., Ltd. Le système offre une excellente définition de résolution, une vitesse de traitement rapide et une large fenêtre de traitement. Les principaux composants de l'unité sont : un film photosensible ; a développeurs et solvants ; solution de développement ; un etchant ; et un four. Le film photosensible contient trois couches : une couche de photopolymère ; une couche de scribe lumineux qui, lorsqu'elle est exposée à la lumière, forme des microstructures ou des réseaux géométriques structurés ; et une couche de photomasque, qui bloque certaines longueurs d'onde de la lumière. La solution de développement est un mélange hydrosoluble contenant des composés chimiques destinés à faciliter le développement du film photosensible. L'etchant aide à dissoudre les composés chimiques dans le développeur. Pour faciliter le processus de développement, un four est utilisé pour cuire le film photographique, ce qui lui permet de devenir réticulé et durable. Le film photosensible est exposé à la lumière à des intervalles de temps variables. Ce processus est appelé « exposition radiographique » et est utilisé pour créer des modèles spécifiques. Au cours de cette étape, la couche de scribe de lumière est exposée à un rayonnement spécifique, formant les motifs prédéfinis dans la couche de photomasque. Une fois que le film photosensible a été exposé au rayonnement, il est développé à l'aide de l'etchant et du développeur. Au cours du processus de développement, le graveur aide à dissoudre les composés chimiques dans le développeur, créant des microstructures et des réseaux dans la couche de photomasque. Une fois le processus de développement terminé, la couche de photomasque est ensuite retirée du film photosensible. Enfin, la photorésistance DNS RF3 est conçue pour des applications d'imagerie analogiques à court terme. Cela permet aux utilisateurs de créer plusieurs couches d'image sans avoir besoin de ré-exposer une seule image plusieurs fois. Il permet également aux utilisateurs d'avoir un contrôle précis sur la résolution de l'image. L'outil photorésist est idéal pour créer des motifs complexes et de petits composants. En outre, l'atout fournit une vitesse de processus rapide, une excellente définition de résolution, et une large fenêtre de processus.