Occasion DNS / DAINIPPON RF3S #9389840 à vendre en France

DNS/DAINIPPON RF3S est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour fournir un contrôle de l'épaisseur du film et une résolution supérieure pour les applications de fabrication de grande surface. Ce système est spécifiquement conçu pour répondre aux exigences sophistiquées d'applications telles que la fabrication de plaquettes semi-conductrices, les écrans LED et l'emballage des appareils. DNS RF3S utilise une buse propriétaire de haute précision, en combinaison avec un traitement de surface avancé, pour étaler uniformément la résine photosensible sur la surface de l'échantillon avec une répétabilité et une homogénéité élevées. Cela permet des couches extrêmement minces avec une uniformité de niveau nanométrique de 7nm ou moins. La machine est également capable de fournir de la résine photosensible en quantités très précises, à des concentrations allant jusqu'à 6 parties par million. DAINIPPON RF3S utilise une « buse grand angle » brevetée pour assurer un flux de vapeur photorésist bien distribué. Ceci permet un revêtement uniforme sur une surface plane et minimise le revêtement ou le pontage inégal entre des motifs étroitement espacés. La qualité de la résine photosensible déposée est également maintenue grâce à un « outil de contrôle de non-volatilité » unique, qui empêche la dégradation du film photosensible, tout en évitant l'accumulation ou le gaspillage de la résine photosensible. RF3S utilise également un actif unique de contrôle de l'épaisseur du film, qui ajuste automatiquement la vitesse de dépôt et le débit afin d'obtenir un film uniforme avec une épaisseur contrôlée avec précision. Ce modèle utilise un contrôle de rétroaction en boucle fermée pour assurer une concentration et une épaisseur précises du dépôt de photorésist et fournit un mécanisme de réduction de l'absorption parasite dans le substrat souterrain. Étant donné la nécessité de systèmes avancés de dépôt de films photolithographiques pour des procédés avancés d'emballage et de wafer-level, DNS/DAINIPPON RF3S fournit une excellente solution pour les applications de fabrication de grande surface. Ses fonctionnalités avancées sont essentielles pour atteindre la résolution de calcul souhaitée et l'uniformité. Combiné à un équipement de traitement de fond automatisé, tel que le système BRUCE de Nanotech, l'unité DNS RF3S est capable de fournir une des technologies photorésist les plus avancées disponibles.