Occasion DNS / DAINIPPON RF3S #9392420 à vendre en France

DNS/DAINIPPON RF3S est un procédé de photorésistance spin-on qui offre une excellente résolution dans la zone à pas fin avec une perte de rapport d'aspect minimale. Il utilise une résine à tonalité négative, qui est appliquée sur le substrat selon un procédé similaire à l'enrobage de spin. Cet équipement est parfait pour les applications de montage de surface (SMD) et de pointe en raison de la durée de vie élevée du cycle et de la grande transparence résultant de l'utilisation du traitement spin-on. La résine photosensible du système DNS RF3S est un matériau de copolymère acrylate à base de phényle qui est appliqué sur le substrat par traitement spin-on. On obtient ainsi une épaisseur uniforme et une excellente résolution. Le revêtement contient des matériaux photosensibles qui sont exposés à la lumière ultraviolette pour activer le processus d'exposition. La résistance est alors développée, ce qui définit les caractéristiques structurées du dispositif. L'unité dispose également d'un développeur de contraste élevé qui offre une excellente résolution d'image et une grande latitude de processus. Il est formulé pour les motifs de cavité profonde, et assure une bonne définition des bords pour les lignes étroites. Il est également résistant à l'eau et peut être utilisé pour couvrir la grande surface smaztmask liner et les îles. DAINIPPON RF3S est également conçu pour être compatible avec les processus sans Pb. La résistance présente une excellente adhérence au cuivre, répondant aux exigences des processus d'assemblage de panneaux sans plomb et au plomb. Il est également peu gazeux et a une faible absorption d'eau pour une meilleure solabilité. La machine offre une excellente résolution d'image et une large fenêtre de processus. Il dispose également d'une longue durée de conservation et d'une stabilité thermique supérieure. En outre, la résine est un outil universel qui est très applicable avec tous les types de systèmes de plaques de photolithographie. Dans l'ensemble, RF3S actif photorésist spin-on est une excellente solution pour les applications SMD et les appareils de pointe fine. Il offre une excellente résolution et est très compatible avec les processus d'assemblage de planches sans plomb. Le modèle peut également être utilisé avec tous les types de systèmes de plaques de photolithographie et offre une large fenêtre de processus et une longue durée de conservation.