Occasion DNS / DAINIPPON SC-80A-AVFG #9148240 à vendre en France

L'équipement DNS Screen DNS/DAINIPPON SC-80A-AVFG est un système de lithographie de dispositifs semi-conducteurs de pointe conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs à haute résolution. Sa caractéristique principale est sa technique d'exposition multi-canaux, permettant une grande uniformité et répétabilité de revêtement dans les structures difficiles à reproduire telles que finFET et les réseaux de mémoire. L'unité DNS SC-80A-AVFG utilise une gamme polyvalente de lentilles centrées sur le substrat, y compris le zoom à foyer variable, la f-theta et les lentilles asphériques qui peuvent produire une large gamme de géométries de motifs pour les géométries de dispositifs difficiles. De plus, une machine unique de mesure de transmission de masque permet d'assurer un placement précis des motifs exposés. L'outil DAINIPPON SC-80A-AVFG comprend également un scanner photomasque 1.3x haute résolution, qui permet une précision d'alignement de masque à masque jusqu'à un arc-seconde, en tenant compte d'une éventuelle déformation d'image due à des défauts de masque. Cela permet un transfert de motifs précis entre les masques, permettant une utilisation efficace des masques dans les étapes de lithographie successives. En outre, sa capacité d'exposition multi-canaux permet un contrôle précis de la résolution des motifs non gravés, avec un niveau élevé de répétabilité des motifs. Son algorithme d'optimisation d'impression innovant permet de maximiser le débit sur le réticule tout en assurant une uniformité optimale prédéfinie entre les motifs de taille identique, une limitation majeure des systèmes de lithographie classiques. SC-80A-AVFG peut également exposer des modèles difficiles afin de créer des 3D-structures uniques et complexes, avec une taille minimale de 40nm et une taille maximale de 1000um caractéristiques accomplies dans une exposition. Son atout d'éclairage multi-longueurs d'onde et haute stabilité assure la précision et la répétabilité des profils d'exposition du modèle, et sa fonction de filtrage spectral permet des longueurs d'onde UV allant de 203 nm à 300nm. Enfin, sa suite logicielle spécialisée combine diagnostic et contrôle des processus afin d'inspecter et d'analyser avec précision les données d'observation. Il dispose d'un fonctionnement entièrement automatisé ainsi que d'un mode interactif pour examiner les résultats en temps réel. Cela permet d'optimiser efficacement le développement de produits de pointe et fait de cet équipement une solution idéale pour le processus de lithographie difficile du dispositif semi-conducteur moderne.