Occasion DNS / DAINIPPON SC-W60A-AV #9018261 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AV est un équipement photorésist de pointe utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il est capable de produire des motifs de type N ou P sur des substrats jusqu'à 200 mm de diamètre et jusqu'à 30 μ m d'épaisseur. Le système est intégré avec des outils de conception avancés et des capacités de simulation, ce qui en fait une solution attrayante pour la fabrication numérique. L'unité consiste en un procédé de gravure en quatre étapes qui commence par le dépôt de résine photosensible. Pour ce faire, on utilise deux sources indépendantes, la table porteuse du substrat et le distributeur. La table porte substrat applique un dépôt uniforme de photorésist sur le substrat. Le distributeur est réglé pour déposer une quantité déterminée de résine photosensible et peut être utilisé pour faire varier l'épaisseur de la couche. Une fois la résine photosensible appliquée, elle est exposée au rayonnement à travers un masque. Le rayonnement peut être adapté pour cibler des parties spécifiques du substrat et pour fournir un motif personnalisé. Lors de la phase d'imagerie, deux caméras sont utilisées pour localiser et comprendre les caractéristiques de la couche de résiste. Un microscope optique et un outil laser sont disponibles pour faciliter l'imagerie. La troisième étape du processus est la phase de développement. Ici, la couche de résistance est développée et le motif imagé est révélé. Les zones exposées sont encore gravées et les substrats sont soumis à un rinçage. Ce rinçage élimine de la surface tout produit chimique résiduel sans détruire la couche structurée. Dans la quatrième étape, une couche conforme est déposée pour compléter le motif. Une fois la couche conforme en place, le substrat est rincé une seconde fois pour s'assurer que tous les produits chimiques ont été éliminés. Après avoir réussi ces quatre étapes, la plaquette peut être utilisée pour d'autres procédés tels que le dopage ou la métallisation. Dans l'ensemble, DNS SCW-60A-AV est une machine de photorésistance avancée offrant un processus fiable et rapide pour créer des motifs de semi-conducteurs sur des substrats. Il est conçu pour fournir une excellente résolution d'imagerie, une grande précision de dépôt, et une faible possibilité de défauts. L'outil peut manipuler des substrats jusqu'à 200 mm de diamètre et jusqu'à 30 μ m d'épaisseur, ce qui en fait la solution parfaite pour la fabrication avancée de semi-conducteurs.