Occasion DNS / DAINIPPON SC-W60A-AV #9251325 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AV Photoresist Equipment est un système de lithographie avancé utilisé pour modéliser des dispositifs microélectroniques avec une grande précision et une grande vitesse. Ses capacités comprennent des technologies avancées de métrologie et de film mince, des systèmes complets de manutention des matériaux, des systèmes optiques de haute précision et le traitement des résines photosensibles. Cette unité est idéale pour la fabrication de lignes ultra-fines et de ferrules dans la production de MEMS (systèmes microélectromécaniques) et IC (circuits intégrés), ainsi que d'autres procédés. La machine est équipée d'un laser à excitation par résonance à double longueur d'onde, d'un soufflet de fibre de maintien de la polarisation et d'une lentille de projection à champ entier. Cela permet une exposition précise et répétable même pour des motifs très complexes. L'outil est également équipé d'un étage multi-axes, qui permet un mouvement précis et répétable pour une large gamme d'applications d'imagerie micro-optique. L'étage comprend également une fonction d'indexation intégrée pour assurer un positionnement précis et reproductible sur une large gamme de motifs. Afin d'assurer un profil de résistance uniforme, l'actif est intégré à un modèle semi-automatique de manutention des plaquettes avec chambres d'évacuation sous vide. Lors de l'étape d'exposition de la plaquette, l'équipement manipule la plaquette pour obtenir un profil de résistance optimal, ce qui contribue à des rendements de production plus élevés. Le système peut également être utilisé pour modéliser des domaines magnétiques, qui ont une large gamme d'applications, y compris MEMS, IC, disque dur, et la production de panneaux plats d'affichage. A cet effet, l'unité est intégrée à un polarimètre optique de dispersion qui mesure simultanément l'intensité du champ magnétique en deux dimensions. Il permet également de contrôler la stabilité de la température en compensant activement la dérive thermique associée au processus d'imagerie. En outre, la machine est également capable d'opérations simultanées d'imagerie et de métrologie, ce qui permet à l'utilisateur de comparer la qualité du dispositif fabriqué avec le modèle de conception. Cela aide à améliorer la précision et la fiabilité du produit obtenu. Dans l'ensemble, DNS SCW-60A-AV Photoresist Tool est un actif de lithographie avancée avec une large gamme de capacités. Ses capacités comprennent des technologies avancées de métrologie et de film mince, des systèmes complets de manutention des matériaux, des systèmes optiques de haute précision et le traitement des résines photosensibles. Sa capacité à modeler les domaines magnétiques et sa grande précision et rapidité en font un choix idéal pour la fabrication de lignes ultra-fines et de ferrules en production MEMS et IC.