Occasion DNS / DAINIPPON SC-W60A-AVQ #9235500 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AVQ est un équipement de photorésistance qui est utilisé pour produire des masques de haute précision pour une variété de dispositifs semi-conducteurs. Le système est équipé de deux têtes d'exposition photorésistantes qui utilisent la technologie d'exposition aux interférences pour obtenir des motifs photorésistants uniformes et de haute précision sur une variété de substrats. Le fonctionnement de base de l'unité implique l'utilisation d'un photomasque, qui contient le motif à transférer sur le substrat. Le photomasque est placé sur les deux têtes d'exposition photorésistantes. Chaque tête se compose de quatre lampes à arc et de quatre lentilles de condenseur dans un étage commun. Un scanner optique tridimensionnel est utilisé pour assurer une exposition uniforme du photomasque. Le masque est exposé à la lumière à des angles précis pour assurer la précision de l'image transférée. Le masque est placé sur un « étage échantillon » qui est monté sur un étage motorisé de haute précision, qui se déplace dans les directions x, y et z pour aligner le photomasque sur le substrat. L'unité d'alignement laser et la machine d'alignement automatique, équipés de paliers à air, garantissent également un alignement précis afin que la photomasque puisse être enregistrée avec précision. L'outil est conçu pour une grande précision et flexibilité. Ceci est réalisé grâce à son interface conviviale, qui permet aux utilisateurs de mettre en place et d'exploiter rapidement l'actif. Par exemple, l'utilisateur peut modifier l'intensité lumineuse de chaque lampe à arc et le temps d'exposition de chaque tête. Les têtes d'exposition peuvent être automatisées, ce qui permet aux utilisateurs d'ajuster le temps d'exposition pour chaque longueur d'onde de la lumière afin de compenser les variations de la photomasque pour enregistrer avec précision chaque motif. Le modèle est également équipé d'un logiciel de traitement d'image, qui permet aux utilisateurs d'ajuster le contraste et la luminosité du photomasque, ainsi que d'éliminer les particules de poussière qui pourraient être présentes sur le photomasque ou le substrat. Ceci assure un transfert de motif de haute précision. Enfin, le DNS SC-W60A-AVQ contient une paire de systèmes sophistiqués de pulvérisation par faisceau d'ions et de dépôt en phase vapeur. Ceci permet le dépôt de matériaux en couches minces sur les motifs sur le substrat. Ces matériaux, combinés au motif photorésist, forment des dispositifs semi-conducteurs d'une grande fiabilité et d'une grande efficacité. En conclusion, DAINIPPON SC-W60A-AVQ est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour produire des masques de haute précision pour une variété de dispositifs semi-conducteurs. Il est équipé de deux têtes d'exposition de précision, d'unités d'alignement laser et de logiciels de traitement d'image qui offrent à l'utilisateur la flexibilité et la précision nécessaires pour produire des masques de haute qualité. De plus, ses systèmes avancés de pulvérisation et de dépôt en phase vapeur permettent à l'utilisateur de déposer avec précision des couches minces sur les motifs du substrat, en tirant le meilleur parti du système photorésist.