Occasion DNS / DAINIPPON SC-W60A #9142689 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SC-W60A est un équipement de photorésistance liquide constitué de photorésist, de révélateur et de démoulage aqueux. Il est utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs, principalement pour la fabrication de divers composants dans la fabrication de circuits intégrés (IC). Le système photorésist utilise une solution d'hydroxyde de potassium (KOH) pour graver les zones exposées du matériau photorésiste. Ce procédé de gravure forme le motif désiré sur le substrat, puis est suivi d'un nettoyage humide et d'un séchage du substrat. L'unité a deux composants principaux, la solution photorésist et le développeur. La solution de photorésist est un mélange de composés sensibles à la lumière et de liants qui réagissent au rayonnement UV ou au faisceau d'électrons. Il offre un niveau exceptionnel de fidélité au motif, de contrôle de la largeur de ligne et de résolution. Le développeur est utilisé pour dissiper la résine photosensible exposée après le processus de création. Cette solution chimique est typiquement composée de solvants organiques et d'acides organiques tels que l'acide sulfurique et l'acide fluorhydrique. Dans le processus de mise en oeuvre de la photorésist, le substrat est immergé dans la solution de photorésist, typiquement pendant 8-15 secondes. Le substrat est ensuite exposé à la lumière UV, au faisceau d'électrons ou à la lumière laser pendant un certain temps pour guérir la résine photosensible. Les zones exposées de la résine photosensible sont dissoutes dans le révélateur, laissant le motif désiré sur la surface du substrat. Le substrat est ensuite rincé dans un démoulage aqueux pour éliminer toute résine photosensible résiduelle. Le substrat est ensuite séché et prêt pour l'étape suivante de traitement. La photorésistance DNS SC-W60A est conçue pour des performances et une précision élevées. Il offre une fidélité au motif haute résolution avec un excellent contrôle de la largeur de la ligne et une excellente résistance chimique humide. L'outil de photorésistance peut être utilisé dans diverses applications, telles que les photorésists IC, le brasage monocouche et multicouche, le brasage ultra fin et le rechargement à haute température. Grâce à sa résistance remarquable à une variété de conditions de processus, l'actif photorésist est idéal pour l'emballage avancé et l'optoélectronique. Dans l'ensemble, le modèle photorésist DAINIPPON SCW-60A offre un moyen simple et fiable de créer des dispositifs micro-électroniques. L'équipement comporte une gamme d'avantages, y compris une excellente adhérence au matériau du substrat, une résolution supérieure et un excellent contrôle de la largeur de ligne. Le système reste un choix populaire parmi les fabricants d'IC en raison de son expérience avérée de mises en œuvre réussies et d'opérations efficaces.