Occasion DNS / DAINIPPON SC-W629-BVQ #293748585 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SC-W629-BVQ est un système de photorésistance liquide en deux parties spécialement conçu pour les applications de lithographie à semi-conducteurs. La résine photosensible est un composite chimique à tonalité positive comprenant une couche aqueuse photosensible et une couche de protection non photosensible offrant une excellente résolution, un transfert de motifs sensibles élevé et des performances fiables sur divers substrats et conditions de procédé lors de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. La couche aqueuse photosensible est constituée d'un polymère donneur, d'un initiateur, d'un liant et d'un sensibilisant. Le polymère donneur est une polyvinylamine contenant au moins 4 % de méthacrylate d'hydroxyéthyle (HEMA) et d'initiateur-liant qui associe l'HEMA à un plastifiant polyvinylaminé. Le sensibilisant pour la couche photosensible aqueuse est à base de Co (NH3) 6Cl3 et fournit un excellent transfert de motifs sur une large gamme spectrale. Ce sensibilisant est particulièrement efficace pour l'exposition aux ultraviolets avec des longueurs d'onde de 365 nanomètres (nm) et 248nm et est recommandé pour 0,30micron et de plus petites tailles. La couche de protection non photosensible est un revêtement secondaire à base de polymère, qui aide à protéger la couche photorésiste sous-jacente. Cette couche constitue une barrière chimique efficace entre la couche photosensible active et l'environnement du procédé lors des applications lithographiques. Il résiste à la plupart des solvants et autres produits chimiques utilisés lors du traitement et adhère à la couche photosensible sous-jacente sans délamination. Le système photorésist DNS SC-W629-BVQ est conçu pour une utilisation en photolithographie et convient aux conditions de traitement standard de 25 à 40 ° C Cette résine photosensible offre une excellente résolution, un transfert de motifs, une résistivité de gravure, une compatibilité avec les agents alcalins et une photospatiale élevée. Ce photorésist est résistant aux solvants, stable aux UV et stable au four après exposition, ce qui le rend idéal pour de multiples étapes de processus dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Dans l'ensemble, le système photorésist DAINIPPON SC-W629-BVQ est un excellent choix pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs car il permet la production de motifs haute qualité et haute résolution en ligne fine. Il fournit des performances fiables, haute résolution, et une large gamme de compatibilité de processus, ce qui en fait un outil précieux dans la formation de composants électroniques.