Occasion DNS / DAINIPPON SC-W80A-AVG #9157627 à vendre en France

L'équipement photorésist DNS/DAINIPPON SC-W80A-AVG est un outil utilisé dans les procédés de lithographie avancés. Le système fournit précision et répétabilité en utilisant une source de lumière et des photomasques de pointe. A son cœur, l'unité intègre une source lumineuse : un laser excimère à fluorure de Krypton (KrF). Ce laser puissant fournit une source d'émission de lumière ultraviolette profonde (UV), permettant d'imprimer une petite fonctionnalité avec une grande vitesse et résolution. La machine DNS SC-W80A-AVG peut tirer parti de la puissance du laser pour produire des caractéristiques d'une taille inférieure à 10 nanomètres (nm). L'outil dispose également d'un chemin de lumière optique bien conçu, qui fournit des opérations avec la génération de motifs précis et l'alignement optique. L'optique dispose d'une plate-forme mobile flottante de masquage ainsi que d'une étagère de lumière fixe qui supporte le masque et laser focus. Cela permet l'alignement précis du masque et du laser, assurant un réalignement du motif de +/- 1 µm. En plus de sa haute optique, DAINIPPON SC-W80A-AVG dispose également d'une technologie avancée de photomasque. Cette technologie permet de distribuer la résine photosensible sur les systèmes de masque et de substrat pour les maintenir isolés les uns des autres. L'utilisation d'un photomasque avancé assure que le masque et le substrat ne subissent pas de diaphonie ou de contamination photorésistante pouvant conduire à de mauvaises performances. Au total, SC-W80A-AVG Photoresist Model est un outil de lithographie avancé offrant une optique supérieure et une technologie photomasque. Son puissant laser KrF excimer permet l'impression de précision avec des tailles extrêmement petites, tandis que le chemin de lumière optique sophistiqué assure une génération et un alignement précis des motifs. En outre, la technologie avancée de photomasque empêche la contamination, permettant aux utilisateurs d'obtenir d'excellentes performances et répétabilité.