Occasion DNS / DAINIPPON / SCREEN HP-80A-AV #293760417 à vendre en France

DNS/DAINIPPON/SCREEN HP-80A-AV est un équipement de photorésistance sophistiqué utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système joue un rôle critique dans la photolithographie, étape clé dans la fabrication des circuits intégrés (IC) et autres dispositifs microélectroniques. Le procédé photorésist consiste à transférer un motif d'un photomasque vers un substrat revêtu d'un matériau photosensible appelé photorésist. Ce motif définit les caractéristiques du circuit sur le substrat, permettant la formation de transistors, d'interconnexions et d'autres composants sur le CI. L'unité DNS HP-80A-AV est conçue pour fournir une précision et une répétabilité élevées dans le dépôt et le développement de couches photorésistantes sur des plaquettes semi-conductrices. La machine comprend plusieurs sous-systèmes et composants qui travaillent ensemble de manière transparente pour obtenir un transfert de motifs précis et un contrôle optimal du processus. Au cœur de l'outil SCREEN HP-80A-AV se trouve le module de dépôt de photorésist qui est chargé d'appliquer une couche uniforme de matériau photorésist sur la surface du substrat. Ce module dispose de techniques de revêtement avancées, telles que le revêtement par pulvérisation ou par pulvérisation, pour assurer une épaisseur et une qualité constantes de la couche de résine photosensible. Le procédé de dépôt est soigneusement contrôlé pour obtenir l'épaisseur de film et la couverture souhaitées sur toute la surface de la plaquette. Une fois la couche de photorésist déposée, le substrat est déplacé vers le module d'exposition, où le motif photomasque est transféré sur la photorésist par exposition à la lumière ultraviolette (UV). L'actif d'exposition de DAINIPPON HP-80A-AV est équipé d'une optique précise et de mécanismes d'alignement pour assurer un alignement et une réplication précis des motifs. Le modèle peut également inclure des options pour les techniques de lithographie de proximité et de projection, selon les exigences spécifiques de la conception du CI. Après exposition, le substrat se déplace vers le module de développement, où les zones non exposées de la résine photosensible sont dissoutes, laissant derrière elle la couche de résine modelée correspondant aux caractéristiques du circuit. Le processus de développement est essentiel pour définir la disposition du circuit avec haute résolution et fidélité. HP-80A-AV équipements offrent des capacités de développement avancées, y compris des recettes personnalisables pour optimiser le temps de développement, la température, et la chimie basée sur le matériau photorésist spécifique et le type de substrat. En plus des modules de dépôt, d'exposition et de développement de base, le système DNS/DAINIPPON/SCREEN HP-80A-AV peut comporter des modules auxiliaires pour la cuisson après exposition, l'enlèvement des billes de bord et la manipulation des plaquettes afin de rationaliser le flux de processus global et d'améliorer la productivité. L'unité intègre également des contrôles logiciels sophistiqués et des outils de gestion des données pour surveiller et optimiser les paramètres de processus, assurant des performances et un rendement constants dans la fabrication des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, la photorésist DNS HP-80A-AV représente une solution de pointe pour permettre la réalisation de circuits haute résolution et précis dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec ses capacités avancées, sa fiabilité et ses fonctions de contrôle des processus, cet outil joue un rôle essentiel dans l'innovation et l'efficacité dans la production des IC et des dispositifs microélectroniques de nouvelle génération.