Occasion DNS / DAINIPPON / SCREEN RF3 #293609035 à vendre en France

DNS/DAINIPPON/SCREEN RF3 est un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication de dispositifs microélectroniques. Le système est composé d'une machine d'impression DNS automatisée et d'une unité d'exposition avec une source lumineuse. Cette combinaison permet une grande précision, un contrôle élevé de l'exposition et une grande efficacité d'exposition dans le processus de production de la microélectronique. La machine DNS RF3 est équipée d'un pistolet de tir et d'un outil optique haute résolution. La machine d'impression LCD SCREEN sur l'actif d'exposition est conçue pour exposer avec précision les matériaux photosensibles sur le substrat. La machine d'impression LCD DAINIPPON utilise un modèle de transport X-Y pour assurer un alignement et un enregistrement précis du matériau d'exposition sur le substrat. La source lumineuse SCREEN RF3 pour l'exposition peut atteindre une intensité lumineuse pouvant atteindre 8 000 mW/cm2. Cette source lumineuse peut être ajustée pour une exposition optimale des matériaux photosensibles choisis, ainsi que pour une exposition du substrat. La source lumineuse est également capable d'exposition dans le domaine ultraviolet, contribuant à minimiser toute combustion du substrat due à l'exposition. L'équipement d'exposition est également configuré pour le fonctionnement en mode lot, permettant la production de plusieurs substrats à la fois. Cela peut réduire considérablement les délais de production et les coûts des matériaux. Les caractéristiques d'automatisation du système réduisent également l'erreur humaine dans le processus d'exposition, ce qui entraîne des rendements plus élevés. L'unité DAINIPPON RF3 offre également un certain nombre d'autres fonctionnalités pour optimiser le processus d'exposition. Il offre une journalisation et un enregistrement intégrés de l'exposition, ainsi que des fonctions de configuration et de contrôle onDNS/DAINIPPON/SCREEN, offrant aux utilisateurs un contrôle complet de leur processus d'exposition. Il offre également un logiciel pour corriger les erreurs d'exposition, minimiser les temps d'exposition et optimiser les rendements des produits. En conclusion, RF3 est une machine photorésist efficace et précise conçue pour la fabrication de dispositifs microélectroniques. Cet outil offre un contrôle élevé de l'exposition et une grande efficacité d'exposition, ainsi qu'un fonctionnement en mode lot et un certain nombre d'autres fonctionnalités pour optimiser le processus d'exposition. Avec ses fonctionnalités intégrées et ses fonctions de contrôle, l'actif permet aux utilisateurs d'avoir un contrôle et une précision complets sur le processus d'exposition, ce qui entraîne des rendements plus élevés.