Occasion DNS / DAINIPPON SCW-622-B #9111281 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SCW-622-B est un système de photorésistance pour les applications de lithographie d'alignement de masques dans le traitement des semi-conducteurs électroniques. L'équipement comprend un étage de plaquette piloté par ordinateur, un système d'imagerie numérique et un étage d'alignement pour le pré-alignement et le réglage fin du masque. L'étage est conçu avec des capacités d'inclinaison et de rotation à deux axes pour manipuler des plaquettes jusqu'à 200 mm de diamètre et 30 mm de hauteur. Il comporte également un étage linéaire de précision pour un positionnement précis de l'ensemble de masque sur la plaquette. L'unité d'imagerie numérique comprend un auto-aligneur et une caméra vidéo pour l'inspection visuelle de l'alignement entre le masque et la plaquette. La machine comprend également un outil logiciel de superposition qui permet un alignement précis basé sur l'image. L'actif est équipé d'une tête optique de projection motorisée à haute résolution et d'un modèle optique de projection manuelle. L'optique de projection permet de projeter des images de masque directement sur la plaquette en préservant la taille et la forme du masque de contact. L'unité d'alignement comporte un positionneur laser avec un laser optique de résolution micron pour le pré-alignement et un capteur laser de sous-micron pour le réglage fin de l'enregistrement du masque. L'équipement est configuré pour le chargement robotique via l'ouverture/fermeture de l'obturateur de la cavité et de la plaquette de masque. Le système est capable de fonctionner à basse température et comprend une unité de vide intégrée pour la manutention des plaquettes en aval de l'optique du projet. La photorésistance DNS SCW-622-B est idéale pour les applications dans la fabrication de semi-conducteurs IC, y compris les circuits de montage et de pilotage en ligne fine. L'outil est également applicable à la production de panneaux plats LCD. En outre, l'actif est capable de gérer un large éventail de résistances et de températures d'exposition. Cela permet des applications telles que le pelliculage épais et mince, le pochoir à bosse et d'autres modèles de mise en page complexes nécessitant une précision et une précision extrêmes.