Occasion DNS / DAINIPPON SCW-636-BV #9269117 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SCW-636-BV est un équipement de photorésistance fabriqué par DNS SCW Co., Ltd. Le système est une unité photorésistante d'avant-garde de pointe conçue pour être utilisée dans le développement et la fabrication de dispositifs microélectroniques. DNS SCW-636-BV dispose d'une machine de revêtement photorésist entièrement intégrée avec une source lumineuse, exposition aux inondations, aligner, rincer et spin-dry et des couches de photorésist entièrement personnalisables. Il offre à l'utilisateur un niveau sans précédent de personnalisation et de contrôle sur le revêtement photorésist et le processus de dépôt. L'outil photorésist est conçu pour être utilisé dans la réalisation de cartes de circuits à pas fin. Sa source lumineuse intégrée est conçue pour couvrir une plage de longueurs d'onde extrêmement large de 400 à 1 200 nm. Ceci peut être utilisé pour utiliser des techniques avancées de lithographie photonique à semi-conducteur (PSL). L'unité d'exposition aux inondations est construite avec une lame de verre de précision pour assurer une exposition uniforme et uniforme tout au long du processus. L'aligneur est conçu avec un logiciel avancé de reconnaissance de motifs pour aligner avec précision le processus d'application photorésist. On assure ainsi une reproduction et un dépôt précis des photopatterns sur le substrat. L'unité Rinse et Spin-dry est équipée d'un régulateur moteur de haute précision pour s'assurer que le rinçage est effectué de façon uniforme, afin d'éviter la contamination du substrat. La personnalisation des couches de photorésist permet à l'utilisateur de choisir la combinaison parfaite de techniques de traitement pour chaque couche, permettant un niveau de contrôle sans précédent sur le processus de photorésist. Cela permet une réplique précise des motifs, avec des surfaces lisses et uniformes. Dans l'ensemble, DAINIPPON SCW-636-BV est un actif photorésistant de pointe conçu pour être utilisé en microélectronique. Il dispose d'un ensemble intégré de composants, y compris une source lumineuse, l'exposition aux inondations, aligner, rincer et spin-dry unité, pour une application photorésist polyvalente et précise. Ses couches photorésistantes personnalisables offrent des niveaux de contrôle sans précédent, tandis que ses moteurs de précision et ses glissières en verre assurent la reproduction précise des photopatterns, même avec des revêtements et des surfaces.