Occasion DNS / DAINIPPON SCW-80A-AVP #293617284 à vendre en France

L'équipement photorésist DNS/DAINIPPON SCW-80A-AVP est un système de gravure et de revêtement de précision très avancé qui fournit une excellente précision pour les processus photolithographiques. Il est bien adapté aux procédés de microfabrication dans un large éventail d'industries. Cette unité est conçue pour produire des photomasques exceptionnels de haute qualité qui peuvent être utilisés dans la production de composants fonctionnels dans diverses applications. La machine DNS SCW-80A-AVP utilise à la fois une évaporation avancée par faisceau d'électrons (EBE) et un outil d'exposition aux ultraviolets profonds pour fournir des résultats précis de revêtement et d'exposition aux photorésistances. L'actif EBE est utilisé pour appliquer des couches minces de photorésist sur le substrat, créant un film mince à la surface du substrat. Le substrat est ensuite placé dans l'unité d'exposition aux ultraviolets profonds du modèle, où un faisceau laser est utilisé pour modéliser les caractéristiques souhaitées sur la couche de résine photosensible. Cette unité fournit également des temps d'exposition beaucoup plus courts que les méthodes d'exposition traditionnelles, ce qui permet des temps de production rapides. L'équipement DAINIPPON SC-W80A-AVP utilise également une source d'exposition verticale, qui minimise la dérive de l'exposition, assurant que le substrat reste à niveau tout au long du processus d'exposition. Cette source d'exposition verticale assure également une couverture uniforme de la surface du substrat. Le système dispose également d'une unité de focalisation automatique qui est conçue pour s'assurer que le faisceau d'exposition est toujours dirigé avec précision vers le substrat, assurant des résultats d'exposition de qualité. Enfin, SC-W80A-AVP machine est équipée d'un outil de gravure automatique. Cet actif utilise un procédé de gravure très précis pour s'assurer que le motif photomasque est transféré avec précision sur le substrat. Ce procédé de gravure très avancé fournit une excellente précision et des surfaces lisses, permettant la production de composants très précis et fiables. Dans l'ensemble, le modèle photorésist DNS SC-W80A-AVP est un excellent choix pour les processus de photolithographie au niveau de la production. Il utilise des sources de gravure et d'exposition avancées pour produire des photomasques d'une précision exceptionnelle, garantissant que les composants fonctionnels peuvent être produits avec des performances fiables. Cet équipement est bien adapté à la production de composants dans un large éventail d'industries, et est sûr de fournir d'excellents résultats.