Occasion DNS / DAINIPPON SD-W60A-AP #9018264 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SD-W60A-AP est un équipement de photorésistance entièrement automatisé basé sur un procédé d'imagerie haut de gamme conçu pour des applications lithographiques de très haut niveau. Le système optique avancé permet la résolution de tailles de motifs aussi petites que 550 nanomètres, offrant une flexibilité pour répondre aux besoins des emballages au niveau des plaquettes et des substrats d'emballage. L'unité automatisée dispose d'une chambre de traitement de résistance au niveau des plaquettes, permettant aux utilisateurs d'appliquer avec précision des photorésists et de les barrer sans chargement ou déchargement manuel. Ce traitement automatisé élimine la possibilité d'erreur humaine et augmente l'efficacité de la production. La machine dispose également de composants matériels avancés, y compris une fonctionnalité multi-plexer, laser haute puissance, et objectif auto-focus avancé pour assurer la plus haute résolution et la précision. La fonction multi-plexer permet aux utilisateurs d'augmenter le débit de l'outil en exposant plusieurs motifs à la fois. Le laser de grande puissance garantit que les motifs peuvent être exposés sur une plus grande surface. L'objectif auto-focus avancé fournit une lecture numérique pour la précision du motif d'exposition et la fonctionnalité pour l'alignement des fonctionnalités. L'actif intègre également des principes d'automatisation avancés, tels que la reconnaissance de motifs en temps réel, le contrôle en boucle fermée et le fonctionnement autonome avec superposition de motifs. De plus, tous ces éléments sont combinés avec des techniques de contrôle de la qualité et de post-traitement pour assurer un minimum de défauts même sur des cycles de production prolongés. DNS SD-W60A-AP est conçu pour répondre aux exigences strictes de toute application lithographique. Il offre des performances, une précision et une fiabilité exceptionnelles. Le modèle est maintenu aux normes les plus élevées pour assurer un rendement maximal et des résultats de qualité. Ses performances exceptionnelles et sa production de haute qualité en font le choix idéal pour les applications photorésistantes.