Occasion DNS / DAINIPPON SD-W60A-AVN #9148335 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SD-W60A-AVN est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement de films de polymères et la génération de micro-structures. Le système est conçu pour le processus de photolithographie pour transférer un motif à un matériau photorésistant, qui est ensuite utilisé pour créer des micro-structures sur une surface de substrat. L'unité dispose d'un module spin-coater intégré pour les dispenses et le développement de polymères, permettant la réalisation de films d'épaisseurs allant de 50 nm à 1000 µm. Le spin-coater fonctionne en combinaison avec le mécanisme de mouvement de précision rapide de DNS SD-W60A-AVN pour assurer un transfert précis du motif vers le substrat. La machine utilise un mécanisme semi-automatisé pour contrôler avec précision le processus d'exposition et de développement. L'utilisateur peut sélectionner les paramètres d'exposition pour optimiser la vitesse, la résolution et la clarté de la formation du motif. L'outil est équipé d'une unité de commande de mouvement à quatre axes pour assurer une dimension critique minimale de 1 µm, même pour les structures fines. DAINIPPON SD-W60A-AVN est conçu avec une unité de film sec, qui est utilisé pour le processus de revêtement photorésist. Cette unité se compose de modules de pré-hydratation, de séchage et de cuisson, qui permettent des résultats de revêtement cohérents et fiables. En outre, l'actif est également équipé d'un modèle d'inspection intégré pour surveiller le processus et garantir des résultats de haute qualité. L'équipement fournit également un auto-chargeur et un déchargeur pour appliquer et enlever le substrat. Ceci permet d'augmenter le débit en réduisant le temps de manipulation du substrat. En termes de sécurité, le système comprend une conception antistatique pour éviter les dommages électrostatiques et assurer un processus stable. SD-W60A-AVN est une unité efficace et fiable pour le photomasque et la production de films de polymère. Avec sa grande précision et son haut débit, cette machine a été largement adoptée dans les industries des semi-conducteurs et des photomasques pour la réalisation de diverses micro-structures.