Occasion DNS / DAINIPPON SD-W60A-AVP #9248935 à vendre en France
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DNS/DAINIPPON SD-W60A-AVP est un équipement de photorésistance conçu spécifiquement pour la résistance à la soudure et une variété d'autres applications microélectroniques. Ce système est idéal pour les photorésistances traitées par spin-on et spray, permettant à l'utilisateur d'optimiser son processus avec un contrôle de recette sophistiqué. DNS SD-W60A-AVP dispose également d'un certain nombre de dispositifs de sécurité avancés pour aider à se protéger contre une utilisation non autorisée. Le premier élément de DAINIPPON SDW-60A-AVP est le Sphero PH25 Spinner. Ce spinner de précision fournit une application photorésist uniforme et est équipé d'une variété d'accessoires de spinner, permettant aux utilisateurs d'optimiser le temps de spin et la vitesse de spin pour une variété d'applications. L'unité est également équipée d'un mécanisme de nettoyage avancé, permettant aux utilisateurs de nettoyer la spinner rapidement et facilement en fin de course. Le processeur photorésist est le deuxième élément de l'unité. Ce processeur puissant utilise une technologie de pulvérisation très avancée, permettant aux utilisateurs de pulvériser de la résine photosensible sur le substrat de manière équilibrée et contrôlée. L'unité est également équipée d'une machine de surveillance sophistiquée et de capacités de contrôle des recettes, permettant aux utilisateurs d'optimiser leurs processus avec précision. Le dernier élément de l'outil est la Plateforme. La Plateforme a été conçue comme un environnement fermé et sûr pour le chargement et le déchargement de la résine photosensible. Il fournit aux utilisateurs des niveaux réglables, leur permettant de changer facilement le niveau de la planche en fonction de leur demande photorésist. La plate-forme dispose également d'un indicateur LED, permettant aux opérateurs de surveiller facilement le processus de chargement et de déchargement. SDW-60A-AVP a révolutionné l'application de photorésist, permettant aux utilisateurs d'appliquer rapidement et avec précision des photorésists à une variété de substrats et dans une variété de processus. En utilisant la technologie spin-on et spray-on de précision, les utilisateurs peuvent optimiser le processus avec des fonctionnalités sophistiquées de contrôle de recette et de sécurité, assurant des résultats optimaux à chaque application.
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