Occasion DNS / DAINIPPON SD-W80A-AVQ #9373065 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SD-W80A-AVQ est un équipement de photorésistance conçu pour la lithographie. C'est un système d'alignement plein champ pour les photomasques, composé d'un laser DUV de 157nm (ultraviolet profond) qui a la capacité de modeler plusieurs niveaux de couches diélectriques et conductrices. Il utilise la technologie du moteur pas à pas pour obtenir une précision et une précision élevées dans l'alignement critique et l'exposition. Cette unité offre une qualité supérieure et des fonctionnalités avancées telles qu'une machine à balayage laser avancée, un outil d'asservissement de focus d'exposition, un mandrin sous vide et un photomasque à grande résolution. L'actif est capable de produire une variété de motifs tels que quartz/verre, argent, oxyde, et couches d'ITO. Il utilise une source lumineuse DUV 157nm de courte longueur d'onde pour exposer le photomasque directement sur la plaquette. Cette courte longueur d'onde fournit un substrat à plus haute résolution pour produire des motifs de masques plus complexes. Le modèle a un mandrin à vide qui tient le photomasque pendant l'exposition. Il utilise la technologie du moteur pas à pas pour aligner avec précision le photomasque sur le mandrin et le positionner précisément pour l'exposition. Cette technologie permet de s'assurer que de multiples niveaux de motifs peuvent être placés avec précision sur chaque plaquette, créant des modèles de lithographie comparables à ceux produits dans l'environnement de production. L'équipement offre également une fidélité et une répétabilité d'image supérieures. Pour ce faire, on utilise un système sophistiqué de contrôle de l'exposition et un servomoteur de mise au point qui permettent de s'assurer que l'exposition est uniforme et répétable sur plusieurs expositions. DNS SD W80A AVQ est une unité photorésist fiable et puissante qui fournit une précision et une précision supérieures pour créer de multiples niveaux de motifs lithographiques avec une plus grande fidélité et répétabilité. Il est très adapté pour les applications avancées de lithographie dans la fabrication de semi-conducteurs et la lithographie RSFV.