Occasion DNS / DAINIPPON SDW-629B #293760405 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SDW-629B est un équipement de photorésistance de pointe qui joue un rôle crucial dans l'industrie des semi-conducteurs. Les systèmes photorésistants font partie intégrante du processus de lithographie dans la production de semi-conducteurs, servant de composant clé dans la création de circuits complexes sur des plaquettes de silicium. DNS SDW-629B, développé par DNS SCREEN (DAINIPPON), est conçu pour répondre aux exigences exigeantes des procédés de fabrication de semi-conducteurs haut de gamme. A son cœur, DAINIPPON SDW-629B est un système de piste qui automatise l'application de matériaux photorésistants sur des plaquettes de silicium, permettant un revêtement précis et uniforme pour atteindre l'épaisseur de couche souhaitée. Composée de modules multiples, l'unité fournit une solution complète pour le traitement de la résine photosensible, y compris le revêtement, la cuisson, le développement et la cuisson. Cette intégration des fonctionnalités rationalise le flux de travail de fabrication, optimisant l'efficacité et le rendement de la production de semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés de SDW-629B est sa technologie de revêtement avancée, qui assure un dépôt de film uniforme sur toute la surface de la plaquette. Ceci est essentiel pour assurer la cohérence du transfert des motifs lors des étapes ultérieures de lithographie. La machine offre un contrôle précis des paramètres de revêtement tels que la vitesse de rotation, le volume de distribution et les rampes d'accélération/décélération, permettant une personnalisation en fonction des exigences de processus spécifiques. De plus, DNS/DAINIPPON SDW-629B est équipé d'une fonction sophistiquée d'enlèvement de bourrelet de bord (EBR) pour améliorer le contrôle du profil de bord et minimiser les défauts à la périphérie de la plaquette. En termes de capacités de cuisson, DNS SDW-629B intègre des mécanismes avancés de chauffage et de refroidissement pour optimiser le processus de cuisson post-revêtement. Le maintien d'un contrôle rigoureux de la température est essentiel pour obtenir des propriétés optimales de film photorésistant, telles que l'uniformité de l'épaisseur et la résistance à l'adhérence. L'outil utilise une combinaison de méthodes de convection et de chauffage radiant pour assurer une répartition uniforme de la chaleur et une évaporation efficace des solvants, ce qui donne des couches de résistance de haute qualité avec des défauts minimes. Pour l'étape de développement, DAINIPPON SDW-629B offre un contrôle précis de la distribution chimique et de l'agitation des plaquettes pour obtenir une résistance uniforme à l'élimination et au transfert de motifs. L'actif est équipé de mécanismes de suivi et de rétroaction en ligne pour assurer des résultats de développement cohérents sur plusieurs plaquettes. En outre, SDW-629B prend en charge une variété de produits chimiques de développement et de recettes de processus, ce qui le rend polyvalent pour différents matériaux photorésistants et exigences d'application. En plus de ses fonctions de revêtement primaire, de cuisson et de développement, DNS/DAINIPPON SDW-629B comprend également des fonctionnalités pour les opérations de post-traitement telles que le durcissement et l'inspection. Le modèle peut effectuer un recuit thermique rapide (RTA) ou un durcissement ultraviolet (UV) du film photorésist pour améliorer sa stabilité mécanique et chimique. En outre, DNS SDW-629B peut s'intégrer aux outils de métrologie pour l'inspection en ligne des dimensions critiques et la détection des défauts, permettant la surveillance et le contrôle des processus en temps réel. Dans l'ensemble, l'équipement photorésist DAINIPPON SDW-629B représente une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à réaliser des processus de lithographie haute performance. Avec sa technologie de revêtement avancée, son contrôle précis des processus et ses capacités d'automatisation complètes, SDW-629B offre une plate-forme fiable et efficace pour produire des dispositifs semi-conducteurs complexes avec un rendement et une qualité supérieurs.