Occasion DNS / DAINIPPON SDW-636-CV #9068905 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SDW-636-CV est un équipement de photorésistance conçu pour les applications avancées de photolithographie. C'est une solution de photorésist à haute résolution et à séchage rapide dans un solvant. Il produit une haute résolution et des caractéristiques de profil supérieures avec une excellente adhérence aux substrats. Le système a une haute photospatiale et une faible absorption qui le rend idéal pour moins de temps de travail. L'ensemble comprend un polymère sensible à la lumière qui, lorsqu'il est exposé à la lumière, agit pour graver un motif sur le substrat. La machine a deux composants : une solution photorésist et une solution développeur. La solution de résine photosensible est mélangée à un solvant puis appliquée sur un substrat. La solution photorésistante prête à l'emploi est appliquée sur le substrat soit par spin, soit par spray. Un masque est utilisé sur le substrat pour protéger le substrat de l'exposition à la lumière selon le motif à graver sur le substrat. Après enduction, le substrat est exposé à une lumière de forte intensité telle qu'une lampe à arc de mercure. La lumière fait polymériser la résine photosensible lorsqu'elle est exposée à la lumière et cela agit pour former un masque de gravure. La solution du révélateur est ensuite appliquée sur le substrat pour éliminer la résine photosensible qui était restée transparente pendant le processus d'exposition et cela laisse un motif gravé. L'avantage de cet outil à base de solvant est la capacité à graver des formes complexes en une seule étape. Les propriétés d'adhérence du Dupont DNS SDW-636-CV coulé chimique sont supérieures, ce qui le rend apte à la gravure de petites caractéristiques dans des substrats fortement contraints ou mobiles. L'actif est adapté à différents matériaux compatibles avec les solutions photorésistantes et développeurs tels que le verre, les plaquettes de silicium, l'alumine et le quartz. DAINIPPON SDW-636-CV offre un excellent contrôle des processus qui permet la reproductibilité des motifs entre substrats avec les mêmes paramètres d'exposition. Cela le rend idéal pour les industries sensibles comme la fabrication de circuits intégrés. En conclusion, SDW-636-CV est une solution fiable et polyvalente pour les applications avancées de photolithographie. Il possède d'excellentes propriétés d'adhérence aux substrats et offre une résolution et des caractéristiques de profil supérieures. Le modèle est idéal pour les applications sensibles au temps ainsi que pour les industries sensibles aux fonctionnalités.