Occasion DNS / DAINIPPON SDW-636-CV #9144968 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SDW-636-CV est un équipement de photorésistance de pointe destiné à des applications de photolithographie. Ce système utilise l'optimisation des processus en temps réel, ou RTPO, pour permettre un contrôle précis et répétable du processus de photolithographie. En outre, DNS SDW-636-CV est équipé d'une variété de fonctionnalités avancées, y compris un étage de plaquette à plus haute résolution, une vitesse de connexion plus rapide, et une interface utilisateur améliorée. L'étage wafer haute résolution permet un enregistrement plus précis des motifs d'exposition très précis. De plus, la scène présente des caractéristiques d'inclinaison et de décalage, ce qui permet plus de contrôle et de flexibilité sur le processus photorésist. La vitesse de connexion plus rapide, en revanche, permet des transferts de données et de diagrammes d'exposition à grande vitesse, augmentant ainsi l'efficacité du processus photorésist. L'interface utilisateur améliorée permet un fonctionnement facile de l'unité grâce à des affichages intuitifs et personnalisables. DAINIPPON SDW-636-CV a également fait ses preuves en matière de fiabilité et de satisfaction des utilisateurs, car de nombreux fabricants et fonderies de premier plan lui font confiance. En outre, SDW-636-CV dispose d'une variété de caractéristiques spéciales et spécifiques qui sont conçues pour améliorer les performances de la machine. Cela inclut des caractéristiques dynamiques étendues, une plus grande précision dans l'alignement des profils d'exposition, et plus de contrôle sur la gamme d'exposition des réticules. Il offre également une résolution plus élevée pour les expositions à la bande et au damier. Dans l'ensemble, DNS/DAINIPPON SDW-636-CV est un outil de photorésistance très avancé et très efficace. Utilisant l'optimisation des processus en temps réel et un large éventail de fonctionnalités, l'actif peut fournir un contrôle fiable et répétable pour répondre de manière satisfaisante aux exigences de haute précision des applications modernes de photolithographie.