Occasion DNS / DAINIPPON SK-2000 #118481 à vendre en France
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Vendu
ID: 118481
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2003
Spin coater / Developer DUV track system, 8"
Wafer flow direction: L-type
Wafer type: Notch
IF-B
Spinner unit configuration:
(2) Coaters
B-ARC (2) Coaters
(3) Developers
Indexer:
Left type
Wafers: SEMI Standard wafers / Notch type
Standard type
(4) Uni cassettes
Coater:
SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4):
Includes:
Cups
EBR Function
Resist lines: 8 Line
Resist pump: PDS-105G-KPV4
Cup rinse function
Back side rinse
Cup rinse
Pot rinse
EBR (Edge bead removal)
Prewet function
SC3 (Unit 5) & SC4 (Unit 6):
Cups: 1
Includes:
EBR Function
Resist pump: PDS-105G-KPV4
Resist lines: 4 Line
Cup rinse function
Back side rinse
Cup rinse
Pot rinse
EBR (Edge bead removal)
Prewet function
Bake:
HP: (6) Units (8, 9, 11, 12, 17, 18)
RHP: (8) Units (25, 26, 28, 29, 31, 32, 35, 36)
CP: (7) Units (7, 10, 16, 24, 27, 30, 34)
AHL: (3) Units (13, 14, 15)
EEW: Unit (33)
Developer:
SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4):
Cups
Developer number nozzle
DIW Rinse nozzle
Back side rinse line
Flow meters with sensor: DEV, DIW1, DIW2, Back-side rinse, ORG, FWD
Includes:
Dev1
Prewet
DIW1
Back side rinse
TR Includes:
TR1 Arm
TR2 Arm
TR3 Arm
Others:
Thermo controller model: CET-CU, Mass 7kg
THC Model: SPC-2313-UC-A
CP Controller model: FRD-A200-UC
HMDS Supply type: Quart bottle to buffer tank
Thinner supply type: Canister tank
Developer supply type: Facility supply
EEW:
Unit (33)
Lamp house type with lamp house
Miscellaneous:
Signal tower lamp: 3 Color (Red, orange, green)
Sub module configuration:
Source bottle cabinet
SC Cabinet
ETU Cabinet
Controller cabinet
IFB ACU Cabinet
Input power supply box
Main gas valve close
Gas (Air, N2) line purge
Chemical (Developer, DIW) line purge
Drain PCW end capping
Gas line (N2) end capping
Chemical (Developer, DIW) line end capping
Spin unit (Coater & developer) exhaust line caping
Bake unit exhaust line caping
Leak check
Main power: 3 Phase, 200 V, full load 20.44 kVA, 59A
50/60 Hz, 3 Wires and GND/PE
Rating 400A, AIC 65kA, motor 8A
2003 vintage.
DNS/DAINIPPON SK-2000 est un équipement de photorésistance haute performance développé pour le traitement de motifs micro-fins. Le système utilise une unité d'imagerie de précision unique, avancée, conçue pour fournir un contrôle parfait de l'enregistrement et de l'exposition, ainsi que pour permettre l'utilisation d'une large gamme de matériaux de résistance photo. Pour une exposition optimale et une grande flexibilité, des outils de contact et de projection sont disponibles. L'outil avancé d'exposition au contact produit un enregistrement d'image de très haute qualité, offrant une exposition parfaitement uniforme sur toute la surface du photomasque. L'outil d'exposition à la projection est conçu pour réduire la distorsion des dispositifs fins par l'application d'une machine optique de haute précision, ce qui finit par augmenter la précision d'exposition, la linéarité et le rendement. L'outil offre également des capacités avancées telles que la résolution des sous-microns, l'uniformité minimale d'exposition de 0,15 micron et les fonctions de contrôle de la stabilité de l'exposition. La résolution du sous-micron garantit que les fonctions de lithographie extrêmement petites peuvent être réalisées avec une précision et un détail excellents. Les dispositifs de contrôle de la stabilité de l'exposition permettent des ajustements précis non seulement du niveau d'exposition mais aussi de la durée, qui sont essentiels pour obtenir des résultats cohérents. L'atout se vante d'un mode à grande vitesse pour l'exposition à ultra-haute température, l'augmentation du débit et la réduction du temps de processus. Une autre caractéristique de ce modèle est sa capacité à commuter les longueurs d'onde d'exposition à partir d'une seule source, permettant d'utiliser des sensibilités multiples pour différents types d'exposition. À propos de l'équipement photorésist DNS SK2000, la conception offre une forte robustesse à la variation de température et réduit considérablement les particules, augmentant la fiabilité globale de l'exposition. Dans l'ensemble, ce système offre une solution optimale pour les applications de lithographie nécessitant des motifs ultra-fins.
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