Occasion DNS / DAINIPPON SK-60BW-AVP #293664591 à vendre en France

DNS / DAINIPPON SK-60BW-AVP
ID: 293664591
(1) Coater / (3) Developer system.
DNS/DAINIPPON SK-60BW-AVP est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement rapide des matériaux et substrats électroniques. Le système utilise un masque de 15 pouces de diamètre de haute précision produit par une unité d'écriture de masque de précision, et peut produire des motifs avec une résolution aussi petite que 2 μ m sur une surface de 4 « x4 ». Sa précision d'alignement peut atteindre 0,005 μ m, ce qui permet de modeler avec précision les lignes ultra fines et les vias. DNS SK-60BW-AVP utilise une technologie d'imagerie optique avancée pour déposer avec précision la couche de résine photosensible sur une gamme de substrats, des matériaux électroniques réguliers à l'oxyde d'indium étain (ITO). Le photorésist est un matériau photosensible utilisé pour créer des couches ou des structures conductrices sur différents substrats, et il permet la formation de motifs complexes. DAINIPPON SK-60BW-AVP dispose d'un ensemble optique de haute précision qui aligne précisément le masque et le substrat, permettant un transfert de motifs précis. Après exposition du substrat à la lumière UV générée par la machine, la résine photosensible non exposée est ensuite retirée du substrat pour un traitement ultérieur. SK-60BW-AVP est également équipé d'un outil de réchauffement avancé qui peut maintenir le substrat et résister au matériau dans une plage de température idéale de 25 à 40 ° C Ceci assure le dépôt précis des couches, favorisant la formation de motifs faciles. L'actif comporte également une station de rinçage, où les substrats complétés peuvent être soumis à un processus chimique afin d'éliminer les particules ou résidus étrangers des substrats. Dans l'ensemble, le DNS/DAINIPPON SK-60BW-AVP est un modèle photorésiste fiable et utile qui permet de réaliser des analyses de haute précision et de déposer des couches de divers substrats. Sa technologie avancée d'écriture d'images masquées, sa haute résolution et son contrôle de la température garantissent la production précise et efficace de structures électroniques complexes.
Il n'y a pas encore de critiques