Occasion DNS / DAINIPPON SK-80BW-AVPE #293807995 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVPE est un équipement de photorésistance conçu pour la mise en oeuvre de dispositifs semi-conducteurs. Il est développé comme un outil de gravure sèche de nouvelle génération pour réduire considérablement les coûts de fabrication des appareils. Dans le procédé, le matériau photorésistant est exposé à un faisceau d'électrons ou de photons, puis le motif est développé dans le matériau résineux, façonnant ainsi un motif dans le matériau. Le système DNS SK-80BW-AVPE est composé de deux composants principaux : le module d'application photorésist et le module de procédé de gravure. Le module d'application photorésist comprend deux composants principaux : l'émulsion photorésist et le bras d'application. L'émulsion de résine photosensible est répartie sur la surface du dispositif par le bras d'application. Le module de procédé de gravure se compose de deux composants principaux : la chambre de gravure et les électrodes de gravure. La chambre de gravure applique une haute tension sur la surface du dispositif, ce qui provoque la formation de plasmas et la réaction avec le matériau de résistance pour réaliser un motif. DAINIPPON SK 80BW AVPE offre plusieurs avantages par rapport aux procédés de gravure traditionnels, tels que : réduction significative de la profondeur de dépôt des matériaux, réduction des délais de traitement, amélioration de la qualité des résidus et réduction considérable des coûts. En outre, l'unité est équipée de dispositifs de sécurité intégrés tels que des protocoles de réduction automatique et des arrêts d'urgence pour le processus de gravure. En outre, la machine est conçue pour être extrêmement précise et a une grande capacité pour réduire les coûts de fabrication des appareils. Enfin, l'outil est capable d'utiliser des tailles de fonctions inférieures à 50nm et inférieures à 100nm, ce qui permet une plus grande complexité de l'appareil et des performances améliorées. DNS SK 80BW AVPE est une solution polyvalente et efficace pour une large gamme d'applications de dispositifs semi-conducteurs. Il offre d'importantes économies de coûts et des améliorations de performance, tout en assurant la sécurité et la précision.