Occasion DNS / DAINIPPON SK-80BW-AVPE #9298990 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVPE est un équipement de photorésistance de traitement par voie humide utilisé pour la fabrication avancée de semi-conducteurs, conçu pour fournir la plus grande vitesse, précision et précision dans des applications telles que la photolithographie de plaquettes. Le système se compose de trois composants principaux : l'unité principale (y compris la tête d'exposition), l'armoire de commande et le boîtier de distribution et de commande d'énergie. L'unité principale aide à contrôler avec précision et précision le processus d'exposition, tandis que l'armoire de commande et la boîte de distribution et de contrôle aident à protéger l'unité contre les perturbations de puissance. La tête d'exposition est un ensemble de sources lumineuses et de masques à fente, composé d'un boîtier de lampe interne, de masques à fente, de mécanismes d'alignement et d'enregistrement des fentes embarquées, et d'une machine d'alimentation et de commande de lampe. L'outil comprend également un atout de refroidissement pour prévenir tout gradient thermique qui pourrait affecter le processus d'exposition. Les masques à fente sont conçus pour être facilement remplaçables, ce qui permet d'utiliser différents motifs lumineux pour différentes applications. Une connectivité informatique externe est également disponible et permet à l'utilisateur de programmer le modèle pour différentes tailles de plaquettes et expositions. Le logiciel utilisé pour contrôler l'équipement permet un contrôle précis des paramètres d'exposition tels que le temps d'exposition et les niveaux d'énergie. Le système photorésist DNS SK-80BW-AVPE est conçu pour avoir une précision élevée, et sa conception de masque à fente exclusive fournit une image haute résolution offrant une capacité accrue en clarté optique. L'unité est également conçue pour l'analyse de données, jusqu'à 64 points de données pouvant être obtenus à partir d'une seule application photorésist. La machine est à la fois robuste et fiable, et est capable de fournir des résultats précis et reproductibles. De plus, l'outil est entièrement configurable et offre la possibilité de varier les paramètres d'exposition pour tenir compte de différentes tailles et épaisseurs de plaquettes. Cela le rend bien adapté à une grande variété de procédés de photorésistance, en particulier pour ceux qui ont besoin d'une précision et d'une précision extrêmes.