Occasion DNS / DAINIPPON SK-80BW-AVPF #9354131 à vendre en France
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ID: 9354131
Taille de la plaquette: 6"-8"
Style Vintage: 1998
(2) Coater / (2) Developer system, 6"-8"
Hot / Chill plates (7-26)
MICROBAR TrackMate chemical cabinet
(3) Control racks
1998 vintage.
DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVPF est un équipement de photorésistance de pointe utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il combine une technologie avancée de lithographie sans masque avec une chimie photorésiste de pointe pour produire une ligne supérieure, l'espace, et la résolution de motif. Le système utilise la technologie de projection directe d'images laser KrF, permettant une lithographie précise et fiable sur une grande variété de substrats de plaquettes. Ceci optimise les performances de la lithographie conventionnelle, ce qui réduit les coûts de fabrication, améliore les rendements et raccourcit les temps de cycle. Les photorésists DNS SK-80BW-AVPF ont été conçus pour fournir une résolution supérieure et un contrôle des bords de ligne. L'unité intègre un absorbeur de lumière inorganique avancé qui atténue la longueur d'onde laser minimale de 248nm pour améliorer la fidélité et la précision du motif. Il dispose également d'une technologie de photopolymérisation exclusive, qui permet une plus grande modulation de l'intensité lumineuse sur toute la plage d'exposition. Combinées, ces caractéristiques entraînent un contraste plus élevé, une diminution de la distorsion des motifs, une diminution du bruit d'image et une amélioration de la précision dimensionnelle. Un avantage supplémentaire est que la machine est compatible avec diverses techniques de post-traitement telles que la gravure humide et la gravure sèche. Cela garantit que tous les processus de fabrication de dispositifs semi-conducteurs peuvent être facilement intégrés aux systèmes photorésistants DAINIPPON SK 80BW-AVPF. Dans l'ensemble, SK-80BW-AVPF outil photorésist est une solution idéale pour la fabrication de dispositifs nécessitant un contrôle précis de la trace de ligne et du bord. Ses capacités de résolution étendues, associées à une atténuation de la lumière supérieure, en font un procédé efficace et peu coûteux pour la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. Le large choix de techniques de post-traitement rend l'actif adapté à une variété de techniques de fabrication de dispositifs, couvrant un large éventail d'applications dans l'électronique et la nanotechnologie.
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