Occasion DNS / DAINIPPON SK-80BW-AVQ #293643901 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVQ est un équipement de photorésistance conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système est une unité de photorésistance liquide capable de produire des structures fines en ligne et en point avec une grande précision et résolution. DNS SK-80BW-AVQ fournit un processus d'imagerie haute résolution à contraste élevé pour le développement d'architectures d'interconnexions à haute densité. Cette machine photorésist est conçue pour offrir une excellente capacité de gravure et des performances de remplissage de bouchon, assurant la qualité d'un circuit intégré. DAINIPPON SK-80BW-AVQ est un outil de photorésistance de type développeur qui peut être utilisé sur de nombreux types de substrat différents tels que le verre, les polymères et les métaux. Cet actif photorésist est conçu pour être chimiquement stable, c'est-à-dire qu'il résiste à la dégradation et fournit d'excellentes performances de gravure. Ce modèle photorésist crée des couches de résistance très durables qui protègent les composants sensibles des dommages lors de la fabrication. Cet équipement photorésist est conçu pour avoir un taux de défaut très faible et protéger les dispositifs de la contamination. Ce système de photorésist est tolérant en température et en solvant organique, assurant la stabilité et la fiabilité de la couche de photorésist. Grâce à l'utilisation de l'imagerie de précision, SK-80BW-AVQ peut rapidement et avec précision créer des caractéristiques de motifs tels que des fenêtres, des contacts et des microvias avec une excellente résolution. En plus de fournir d'excellentes capacités de marquage, DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVQ fournit également d'excellentes performances pour des procédés tels que la lithographie, la gravure sèche, le polissage chimique-mécanique, le dépôt chimique en phase vapeur et l'électrodéposition. Cette unité de photorésist est conçue pour être compatible avec de nombreux matériaux de photorésist différents afin d'assurer la compatibilité avec une variété de substrats et de paramètres de processus de fabrication. Dans l'ensemble, la migration vers la photorésistance DNS SK-80BW-AVQ peut fournir aux fabricants de semi-conducteurs un outil d'imagerie fiable et efficace avec d'excellentes caractéristiques de modélisation et de performance. Cet actif photorésist est un excellent choix pour des applications de lithographie rentables et de haute qualité pour le développement d'appareils.