Occasion DNS / DAINIPPON SK-80BW-BVPE #9316585 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SK-80BW-BVPE est un équipement de haute performance conçu principalement pour la fabrication de circuits intégrés. Le système est équipé d'un procédé breveté à double jet pour le traitement des photorésists à tonalité positive et négative, permettant un contrôle de rapport d'aspect supérieur et une précision de surface. La conception de pointe de l'unité comprend également la gravure assistée par vide et la commande de chambre, ce qui facilite l'application rapide et précise des photorésistes. La machine DNS SK-80BW-BVPE se compose d'une station de nettoyage humide et d'un outil de revêtement photorésist, qui sont tous deux intégrés dans un seul appareil compact. La station de nettoyage humide utilise une technologie avancée de distribution de liquide robotique pour éliminer simultanément les contaminants organiques et inorganiques, chimiquement et/ou par ultrasons, et sécher à une surface uniforme et uniforme exempte de contamination par les particules. L'actif de revêtement photorésist utilise un procédé breveté à double jet dans lequel les produits chimiques photorésistants sont délivrés par deux jets distincts : un pour photorésist positif (PMMA) et un pour photorésist négatif (SU-8). Les deux formulations chimiques différentes sont dosées avec précision et introduites dans une chambre équipée d'un générateur de plasma atmosphérique intégré pour assurer un pattering uniforme du produit chimique. Le flux optimisé de produits chimiques photorésistants se traduit par une couche uniforme de photorésist sur les plaquettes, ce qui améliore le contrôle du rapport d'aspect et augmente les rendements. La chambre de gravure intégrée permet une gravure précise de la résine photosensible sans nécessiter d'étapes de traitement supplémentaires. La gravure assistée par vide des résines est autorisée, chassant les composants de photorésist volatils vers une chambre séparée et augmentant le rendement. Enfin, le modèle DAINIPPON SK-80BW-BVPE offre une stabilité et un contrôle de chambre supérieurs, permettant un traitement uniforme et répétable des photorésistes. En résumé, SK-80BW-BVPE matériel de photorésistance est conçu avec des caractéristiques de pointe spécifiquement adaptées à la fabrication de circuits intégrés. Le procédé à double jet du système et la chambre de gravure intégrée permettent un meilleur contrôle du rapport d'aspect, des rendements plus élevés, un traitement plus rapide et une meilleure précision de surface. Le flux optimisé de photorésistes et de générateur de plasma intégré fournit des motifs cohérents et uniformes avec des déchets réduits. Le résultat global est une unité fiable et performante conçue pour produire des photorésists répondant aux exigences de fabrication rigoureuses d'aujourd'hui.