Occasion DNS / DAINIPPON SKW-629-BV #293821349 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SKW-629-BV est un équipement de photorésistance sophistiqué conçu pour des applications de lithographie haute performance dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est une composante critique du processus de photolithographie, qui est essentielle pour créer des motifs complexes sur les plaquettes semi-conductrices. Le système est fabriqué par DNS SCREEN MFG. CO., LTD., une entreprise japonaise de premier plan connue pour ses solutions innovantes dans les équipements de fabrication de semi-conducteurs. La photorésist est un matériau sensible à la lumière qui subit des modifications chimiques lorsqu'il est exposé à la lumière ultraviolette (UV). L'unité DNS SKW-629-BV est spécialement conçue pour déposer et développer des revêtements photorésistants avec précision et cohérence, assurant le transfert précis des motifs sur les plaquettes semi-conductrices. La machine se compose de plusieurs composants clés, dont une couche de spin pour appliquer un mince film de résine photosensible sur la surface de la plaquette, une plaque chaude pour la pré-cuisson pour éliminer les solvants et améliorer l'adhérence, un outil d'alignement pour aligner avec précision le masque avec la plaquette, et un actif d'exposition aux UV pour le transfert de motifs. Chaque composant joue un rôle crucial dans l'obtention des résultats escomptés avec une haute résolution et fidélité. Une des caractéristiques clés du modèle DAINIPPON SKW-629-BV est sa technologie avancée de revêtement de spin, qui permet un contrôle précis de l'épaisseur et de l'uniformité de la couche de résine photosensible. L'équipement utilise un profil programmable de vitesse de rotation et d'accélération pour adapter les paramètres de revêtement en fonction des exigences spécifiques du processus de lithographie. Ce niveau de contrôle est essentiel pour obtenir un brassage uniforme sur toute la surface de la plaquette, minimisant les défauts et améliorant le rendement. En plus du revêtement de spin, le système intègre également un processus de cuisson sophistiqué pour durcir thermiquement la couche de résine photosensible et améliorer sa stabilité. La température de la plaque chaude, le taux de rampe et la durée sont soigneusement optimisés pour assurer une bonne réticulation des molécules photorésistantes, permettant la formation d'un motif durable qui peut résister aux étapes de traitement ultérieures. En outre, SKW-629-BV unité dispose d'une machine d'alignement avancée qui utilise l'optique de précision et des algorithmes automatisés pour aligner le masque et la plaquette avec la précision de sub-micron. Cet alignement est essentiel pour obtenir une précision de superposition et un enregistrement de motif, notamment dans la réalisation de circuits intégrés complexes avec plusieurs couches d'ébauche. De plus, l'outil d'exposition aux UV de l'actif DNS/DAINIPPON SKW-629-BV utilise des sources lumineuses de haute intensité et des optiques sophistiquées pour transférer les motifs de masque sur la plaquette recouverte de photorésist. Le modèle permet un contrôle précis de la dose d'exposition, de la longueur d'onde et de la distribution de l'énergie, permettant une résolution fine des détails et un débit élevé pendant le processus de lithographie. Dans l'ensemble, l'équipement photorésist DNS SKW-629-BV représente une solution de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs de pointe, offrant une précision, une fiabilité et des performances exceptionnelles dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ses caractéristiques innovantes et ses capacités avancées en font un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à repousser les limites de la technologie de lithographie et à atteindre des performances de pointe.