Occasion DNS / DAINIPPON SKW-629 #9181757 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SKW-629 est un équipement de photorésistance à action positive à tonalité négative conçu pour le traitement des semi-conducteurs. C'est un photorésist avancé, amplifié chimiquement, qui est compatible avec une variété d'outils d'exposition optique. DNS SKW-629 est conçu pour optimiser le rendement et les performances pour les exigences de contrôle de processus en lithographie avancée. Il offre une résolution supérieure, une dépendance exceptionnelle et un contraste élevé. La photorésist offre d'excellentes performances de résistance sur une large gamme d'environnements d'exposition. Sa faible sensibilité à la dose aide à réduire le temps de traitement et à simplifier la fixation des plaquettes. DAINIPPON SKW-629 résiste a une résistance à la gravure sèche supérieure à d'autres systèmes de résines arcyliques, assurant un résultat de gravure uniforme solide dans les applications de gravure plasma. Il possède également une couche d'isolation du carbone qui améliore la précision de la vitesse de gravure et donne une meilleure uniformité. Le système présente également une meilleure stabilité du film après une longue exposition à plusieurs lampes ultraviolettes (UV). L'unité est conçue pour avoir des caractéristiques d'imagerie améliorées et pour fournir un excellent profil de photo-défectivité. Il est capable de créer un large éventail de fonctionnalités de sub-micron à une seule couche à un design avancé-multicouche. La résistance offre également un excellent contrôle de profil, permettant la conception d'une caractéristique plus uniforme, et des temps d'exposition rapides pour réduire le temps de processus. La machine est compatible avec une grande variété de composants, y compris les produits de nettoyage SEMI Standard, les graveurs, les développeurs et les matériaux de dépôt en phase vapeur. La résine est idéale pour une utilisation dans des structures 3D, car elle peut être conçue avec un minimum d'eau stagnante, ce qui en fait un produit final facile. Enfin, les résistances SKW-629 peuvent être utilisées dans la plupart des produits chimiques de traitement humide, assurant la compatibilité et la qualité tout au long du processus. Dans l'ensemble, l'outil photorésist DNS/DAINIPPON SKW-629 est conçu pour fournir des résultats reproductibles de haute qualité dans un large éventail d'applications de fabrication de semi-conducteurs. Il offre une résolution supérieure, des temps d'exposition rapides et une meilleure résistance à la gravure. La résistance offre un excellent contrôle de profil, permettant de créer un large éventail de fonctionnalités pour un produit final plus uniforme. En outre, l'actif est compatible avec la majorité des composants standard de l'industrie et des produits de nettoyage. Son ensemble bien arrondi de caractéristiques en font un choix idéal pour la lithographie avancée dans la fabrication moderne de puces.