Occasion DNS / DAINIPPON SKW-629 #9226171 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SKW-629 est un équipement de revêtement photorésist très précis utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce système permet le dépôt précis de photorésist sur des surfaces de silicium et autres matériaux semi-conducteurs. La photorésist est un liquide ou revêtement photosensible utilisé pour réaliser des motifs microscopiques sur un substrat. Ces motifs peuvent être utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, de dispositifs microélectroniques et d'autres composants électriques. DNS SKW-629 est une unité photorésist très sensible qui est très compatible avec les substrats semi-conducteurs. La machine comporte des distributeurs précis, dispersant avec précision la résine photosensible sur la surface du substrat de manière uniforme. Les distributeurs sont équipés d'un certain nombre de buses commandées individuellement, qui permettent la formation de motifs complexes. L'outil est compatible avec une variété de matériaux photorésistants et de méthodes d'application. Cela permet aux utilisateurs de créer les motifs souhaités, qu'il s'agisse de lignes complexes ou de formes simples. L'actif peut également être utilisé pour des applications photorésistantes non lithographiques, telles que la pulvérisation. Une fois la résine photosensible en place sur le substrat, elle est ensuite exposée à la lumière ultraviolette. Selon la résine photosensible choisie, les zones sélectionnées sont soit dissoutes, soit solidifiées. Après cuisson après exposition, les zones indésirables sont lavées et le motif désiré est ensuite laissé sur le substrat. DAINIPPON SKW-629 est conçu pour un fonctionnement robuste, chaque distributeur étant contrôlé par un modèle de rétroaction automatisé. On assure ainsi une distribution précise et cohérente de résine photosensible sur la surface du substrat. Dans l'ensemble, SKW-629 est un équipement très précis et fiable pour enduire les substrats avec de la résine photosensible. Ce système fournit aux utilisateurs une méthode fiable et efficace pour produire des motifs complexes sur des substrats semi-conducteurs. Cette unité est idéale pour la fabrication de composants électriques complexes utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs.