Occasion DNS / DAINIPPON SS-80B #293658147 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SS-80B est un équipement de photorésistance de pointe utilisé pour créer des motifs sur des plaquettes et des circuits pour des applications semi-conductrices et d'autres applications microélectroniques. Le système est conçu pour plusieurs tailles de substrat, permet d'ajuster la taille du champ d'exposition aux zones spécifiques et offre un alignement de précision. Le composant central de l'unité est EUV Optics, qui utilise une plaquette saphir pour guider et diriger la lumière de 13,5 nm de longueur d'onde vers la plaquette pour une source d'imagerie. Pour tracer avec précision la plaquette, l'optique EUV utilise une machine d'alignement de diagramme de faisceau (BPAS), qui est un outil d'alignement à deux faisceaux qui fonctionne par un arrangement de miroirs mobiles qui ajustent les angles de faisceau lumineux incident. Cet atout BPAS permet une précision et une précision élevées lors de l'alignement du faisceau, facilitant ainsi la génération de motifs complexes. DNS SS-80B intègre également une variété de fonctionnalités spécialisées pour augmenter la vitesse et la précision des processus de production à grande échelle. Grâce à une analyse et un traitement avancés des données, le modèle est en mesure d'optimiser son utilisation des paramètres d'exposition multi-domaines, permettant des performances de photosensibilité plus élevées. En outre, l'équipement offre des capacités d'irradiation à un seul coup, ce qui diminue considérablement le temps de travail en réduisant le nombre d'expositions pour la zone donnée. En termes de sécurité, le système présente plusieurs caractéristiques de protection de l'utilisateur, telles qu'une enceinte laser refroidie par liquide pour empêcher la surchauffe du laser, ainsi qu'un scanner à diapositives qui détecte rapidement les faisceaux émettant en dehors de la zone désignée. Dans l'ensemble, DAINIPPON SS-80B est une unité de photorésistance avancée qui offre une variété de fonctionnalités, telles que le refroidissement au laser, l'irradiation à un seul coup, et la détermination précise, pour répondre aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs qui progresse rapidement.