Occasion DNS / DAINIPPON SS-W60A-AV #9314198 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SS-W60A-AV est un équipement de photorésistance utilisé pour la photolithographie pour produire des motifs de circuit précis et fiables sur des plaquettes semi-conductrices. Il offre une gamme de fonctionnalités pour assurer des performances d'imagerie optimales, y compris une source Laser Mid-UV (248nm) pour fournir des images haute résolution et haut débit. De plus, il est équipé d'un système d'exposition laser HeNe de haute précision pour aligner le champ d'exposition avec les positions des plaquettes pendant l'exposition. DNS SS-W60A-AV utilise une variété d'optiques et de photomasques pour créer des modèles de matériaux résistants très précis. Il utilise un scanner de tableau d'image pour synchroniser le machisme d'exposition laser et assurer une présentation précise des motifs. Le scanner est équipé d'une lentille de haute puissance avec un NA = 0,5 pour fournir une disposition de motif de recouvrement. Cela garantit que les motifs peuvent être recoupés avec précision afin de créer des motifs plus complexes. DAINIPPON SS-W60A-AV utilise également une variété de technologies d'imagerie, y compris RIE, PRT, SLIT, et l'imagerie à plateau. RIE est un procédé réactif de gravure d'ions qui est utilisé pour graver des couches d'un substrat pour créer des motifs de circuits métalliques. PRT est un procédé de photorésistance utilisé pour contrôler avec précision le matériau résineux en imitant finement la surface de la plaquette selon différentes orientations angulaires. SLIT est une technique de lithographie utilisée pour réduire la taille des particules pour créer des caractéristiques plus petites, et l'imagerie à plat est une technique d'imagerie plus classique pour des motifs simples. L'unité comprend également un étage de haute précision et une large gamme d'autres caractéristiques pour aider à l'alignement de précision et l'imagerie. Ces caractéristiques comprennent un mouvement d'étage de précision de 50nm, une compensation d'inclinaison, des systèmes anti-crawling, et une machine d'opération d'obturateur automatique. Ces caractéristiques garantissent que les images sont correctement superposées, résistent aux matériaux contrôlés avec précision et que l'alignement du champ d'exposition avec la plaquette est précis. En résumé, SS-W60A-AV est un outil photorésist très avancé utilisé en photolithographie pour créer des motifs très précis et fiables sur les plaquettes semi-conductrices. Il utilise une variété de technologies d'imagerie, y compris RIE, PRT, SLIT, et l'imagerie à plateau, ainsi qu'une foule d'autres fonctionnalités pour assurer la plus haute performance d'imagerie et la précision.