Occasion EATON 6000 XL #9099870 à vendre en France

EATON 6000 XL est un équipement de photorésistance conçu pour des applications de lithographie de haute précision et de dépôt en couches minces. Il s'agit d'une plateforme entièrement automatisée et rentable qui permet la production de microstructures de plus en plus complexes comme les circuits intégrés, l'optoélectronique et les supports de stockage de données. La technologie de photorésistance brevetée du système utilise la lumière ultraviolette (UV) pour exposer un motif sur un substrat photosensible, qui est ensuite développé pour créer des structures nanométriques. 6000 XL utilise la technologie de lithographie de précision et de dépôt en couches minces, qui est un procédé précis qui dépose une couche mince de polymère constituée de composants chimiques sur le substrat par l'intermédiaire d'une unité sous vide. Ce procédé permet à l'utilisateur de manipuler avec précision l'épaisseur, la composition et la topographie de la couche de polymère et de créer des structures à l'échelle nanométrique. La qualité des profils de lithographie a été déterminée par le débit et la précision des processus d'exposition et de développement. Le matériau photorésist et ses couches utilisées dans la machine ont été conçus pour assurer une excellente homogénéité des résistances, un dégazage exceptionnellement faible et une haute résolution. Une caractéristique avancée de l'outil est un atout d'imagerie haute performance qui permet l'imagerie haute résolution. De plus, la formulation photorésistante brevetée du modèle a été conçue pour être compatible avec une variété de revêtements, tels qu'un époxy, polyimide, BCB, silicium polycristallin, et d'autres matériaux. Les épaisseurs de film qui peuvent être atteintes avec l'équipement vont de 50 nm à 1 µm. Le système est conçu pour fonctionner avec une grande variété de substrats, tels que le silicium, les circuits imprimés et même les textiles. Il est également facile à utiliser, et il offre aux utilisateurs la capacité de mettre en place et d'optimiser rapidement l'unité sans avoir besoin de logiciels spéciaux ou d'expertise. L'utilisateur peut facilement contrôler la dose d'exposition, la longueur d'onde et le profil d'exposition. De plus, la machine est également capable d'effectuer un traitement double face et de supporter un traitement par lots pour des substrats sensibles. Dans l'ensemble, EATON 6000 XL est une solution photorésist robuste et économique pour les applications de fabrication industrielle et électronique. L'outil permet aux utilisateurs de créer avec précision et précision des structures nanométriques très complexes sur divers substrats. Son atout d'imagerie avancé et ses matériaux photorésistants sont conçus pour assurer une haute résolution, une uniformité et une faible sortie de gaz.