Occasion EATON / LSI 6000 & 6000XL #29581 à vendre en France
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ID: 29581
Taille de la plaquette: 2-6"
Track Systems. Can be fully supports with Full PCB repair, remanufactured new or rebuilt, Custom configuration available.
Les systèmes photorésistants EATON/LSI 6000 & 6000XL sont des systèmes industriels spécialement conçus pour la production de semi-conducteurs tels que les capteurs d'image, les puces à mémoire et les microprocesseurs. Les systèmes photorésistants font appel à la lumière pour modeler les composants du semi-conducteur. Le 6000XL est une version mise à jour de l'équipement d'origine de 6000, offrant un domaine de processus plus vaste, des performances améliorées et une meilleure évolutivité. LSI 6000 est conçu avec une grande surface de processus de 10x14 pouces, permettant de produire une variété de motifs dans un système de photorésistance unique. L'exposition initiale de la cible est réalisée par un aligneur de masque numérique (DMA), qui projette le motif de lumière désiré sur le substrat cible. L'unité dispose de la technologie de balayage plein champ (FFS), ce qui permet une modélisation plus précise du substrat. Cette technologie élimine également le besoin d'alignement manuel de DMA pour assurer la précision et la cohérence. En outre, EATON 6000 peut être utilisé pour le lissage post-exposition (PES), un processus qui lisse les parois latérales des composants semi-conducteurs pour améliorer les performances. En outre, la machine est équipée d'une fonction de vérification de l'exposition automatique (AEV), qui vérifie automatiquement la précision des relevés d'exposition par rapport à une norme de référence. Cela permet d'assurer l'exactitude et la cohérence des processus. Enfin, EATON/LSI 6000XL offre des performances et une évolutivité améliorées par rapport à la norme 6000. Ce modèle amélioré est équipé d'une plus grande surface de processus de 20x30 pouces, d'une technologie FFS améliorée et d'interfaces utilisateur améliorées. De plus, l'outil est adapté au processus standard de lissage après exposition, ce qui permet aux utilisateurs de personnaliser leurs configurations en conséquence. En conclusion, les systèmes photorésistants LSI 6000 & 6000XL sont conçus spécifiquement pour la production et la fabrication de composants semi-conducteurs. Ces systèmes offrent des performances et une évolutivité améliorées par rapport au modèle 6000 original et comportent une variété de caractéristiques, dont DMA, FFS et PES. Enfin, le modèle amélioré dispose également d'un AEV pour améliorer la précision et la cohérence des processus.
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