Occasion EATON XL622B #9180693 à vendre en France

EATON XL622B est un équipement de haute performance et de haute précision conçu pour le revêtement photorésist de niveau wafer d'une grande variété de substrats semi-conducteurs monocristallins. Le système est conçu pour fournir précision et répétabilité dans un environnement contrôlé. XL622B utilise une unité de surveillance au niveau liquide pour aider les utilisateurs à obtenir des revêtements de haute qualité avec des résultats reproductibles. La machine contient un disperseur de vapeur, un moniteur de niveau liquide, un bloc de résistance-chauffage et un dispositif de mesure de résistance. Ces composants travaillent ensemble pour créer une épaisseur de revêtement uniforme, cohérente et répétable ainsi que des photorésistances à travers les substrats. Le disperseur de vapeur délivre des flux précis et réactifs de vapeurs de photorésist vers le substrat. Ceci assure que la résine photosensible est livrée à la zone désirée sans zones d'adhérence élevées ou poches de vides faibles dans la couche de résine photosensible. Le moniteur de niveau liquide aide les utilisateurs à maintenir une épaisseur de revêtement constante en mesurant constamment l'épaisseur de la résine photosensible telle qu'elle est appliquée. Le dispositif de mesure de résistance surveille et enregistre ensuite la résistance électrique de la résine photosensible pendant le processus de revêtement. Ceci fournit aux utilisateurs des informations sur la qualité globale de la couche de résine photosensible au fur et à mesure de son application. Le bloc résiste-chauffage contribue en outre à une distribution uniforme de la photorésist en permettant un chauffage uniforme et répétable de la photorésist à travers la plaquette. La capacité à effectuer des mesures précises et répétables de la couche de résine photosensible combinée à la délivrance précise de vapeurs de résistance cohérentes et au chauffage uniforme de la couche de résine photosensible permet à EATON XL622B de créer des revêtements de haute qualité avec d'excellents résultats de répétabilité. Cela permet aux utilisateurs de créer des couches photorésistantes cohérentes au niveau de la plaquette avec une grande qualité et une variation minimale.