Occasion EBARA CADS HVM #9112898 à vendre en France

EBARA CADS HVM est un équipement de photorésistance développé par EBARA, qui permet des processus de photolithographie rapides et précis. Le système permet la création de lignes métalliques et d'autres motifs sur des dispositifs microélectroniques avec un haut degré de précision. Cette unité utilise une machine à balayer électronique avec une optique laser avancée, une large gamme de produits chimiques de résistance photo, et un outil d'alignement de masque haute performance. L'actif HVM du CADS comprend une source laser de haute précision qui illumine le film de résistance sensible. Le faisceau laser est alors modulé selon le motif à imprimer, et le faisceau est ensuite dirigé sur la couche de résine. Un modèle optique avancé est alors utilisé pour projeter le faisceau directement sur la couche de résiste pour un balisage haute résolution. EBARA CADS HVM utilise également un équipement d'alignement de masque de haute précision pour l'enregistrement précis et le transfert du motif sur la couche de résistance. Le système est capable d'imprimer des motifs aussi petits que 0,05 um en taille et jusqu'à 180um en hauteur. L'unité fournit également un contrôle intégré du profil du faisceau afin que des motifs complexes puissent être reproduits avec précision. La machine CADS HVM dispose également d'une gamme de produits chimiques photorésistants qui lui permettent d'être utilisés pour diverses applications. Le contrôle précis par l'outil des longueurs d'onde, des températures et des produits chimiques photorésistants assure une bonne adhérence de la résine sur le substrat et assure un tissage très précis. Pour garantir la précision de la description, EBARA CADS HVM dispose également de logiciels intégrés et de systèmes de diagnostic matériel. Ceux-ci peuvent détecter des erreurs dans l'actif comme une source laser de faible puissance, des écarts dans l'alignement du masque, ainsi que toute erreur dans la photo résistent aux produits chimiques. En conclusion, le modèle CADS HVM est un équipement de photolithographie de pointe qui offre un dosage rapide, précis et précis des dispositifs microélectroniques à un haut degré de résolution. Son système intégré d'alignement de masque, la gamme de résistances photo, et la source laser avancée, fournissent d'excellentes performances dans une variété d'applications. Les systèmes de diagnostic intégrés offrent également une excellente précision et une assurance qualité.