Occasion EBARA UFP 200A #9100402 à vendre en France
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Vendu
ID: 9100402
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2003
Full automatic Cu plating system, 8"
Main body
Controller
Wafer holders
Wafers: W8-0333834-01 Semi standard 200mm, V notch 725um thick, semi-standard 200mm OF thickness 725um
Plating:
Post Cu
Method Electronics
Time: 90 min
Currency density: 5.4A/dm2
Liquid temp: 25°C
Plating sink: Dip
Anord including P
Thickness: 110~120 um
Re-wiring
Method: Electronics
Time: 14 min
Currency density: 2.0A/dm2
Liquid temp: 25°C
Plating sink: Dip
Anord including P
Thickness: 6.5 um
Transfer by robot
Operating mode: automatic, maintenance, return
Cu plating
Dry in/Dry out
Liquid insert
Liquid inside sink and tubing can be drawn
Semi standard cassette applicable
Semi standard load port applicable
(25) Fluoroware 200mm PA200-79MD
Semi standard cassette applicable robot
Can place wafers on rinse dryer
Can place wafers on notch aligner
Can handle wafers on notch aligner
Notch aligner can detect wafer notch
Rinse dryer can rinse wafers after plating
Can dry after plating
Holder transfer robot can remove wafer holder from wafer placing position
Wafer holder standard position from each sink
Stock sink: 2 x 19
Material: PVC
Voluum: 194 L
Accessories: Jig placing plate, liquid sensor, wafer holder sensor
Post water rinse: 2 x 3
Material: PVC
Volume: 72 L
Accessories: Jig placing plate, liquid sensor
Post process sink: 2 x 1
Material: HTPVC
Sink: Upper over flow
Volume: 37 L
Accessories: jig placing plate, liquid sensor, circulation pump, temp sensor, temp unit
Water rinse: 2 x 1
Material: PVC
Sink: quick damp
Volume: 17 L
Accessories: jig placing unit, liquid sensor
Cu plating: 2 x 26
Material: HTPVC
Sink: upper over flow
Volume: 280 L
Accessories: Jig placing unit, liquid sensor, liquid mixer, plating liquid circulation pump, temp sensor, temp unit
Blow: 2 x 1
Material: PVC
Volume: 17 L
Plating(spare) 2x2
Material HTPVC
sink upper over flow
Volume 72L
Accessories Jig placing plate, liquid sensor, liquid mixer, plating liquid circulation pump, temp sensor, temp unit
Waste sink 1
material PVC
Volume 205 L
Accessories liquid surface detector, waste liquid pump, temp sensor
Tubing
Can circulate plating liquid
can keep temperature at 25°C ±1°
Can exhaust waste liquid
Can add pure water
Currently warehoused
2003 vintage.
EBARA UFP 200A est un équipement de photorésistance conçu pour l'exposition à la lumière ultraviolette et la gravure de haute précision des substrats microélectroniques. Le système utilise une lampe stabilisée de grande puissance pour fournir une source puissante et efficace du rayonnement UV nécessaire. Sa roue filtrante réglable permet d'affiner la sortie spectrale pour obtenir des performances de travail optimales. La machine est équipée d'un condenseur refroidi à l'air très efficace pour aider à maintenir les températures de travail pendant le processus d'exposition. De plus, l'unité dispose d'une machine antistatique pour réduire le risque de contamination. L'outil de photorésistance UFP 200A dispose d'une panoplie de fonctionnalités conçues pour supporter un traitement haute performance. Il dispose d'une interface tactile conviviale et d'une large gamme de réglages, permettant un contrôle précis et précis du processus d'exposition. La sortie numérique de l'actif peut être utilisée pour piloter d'autres équipements, tels que des scanners, pour faciliter le processus de gravure. En outre, il peut être utilisé avec une variété de substrats, y compris les métaux, la céramique et le silicium. Le modèle est conçu pour une large gamme d'applications de gravure. Selon les paramètres de température et de pression, EBARA UFP 200A peut graver jusqu'à 8 microns de profondeur par passe.Son photosenseur laser permet un contrôle précis et précis du temps d'exposition, de la détection des erreurs et des processus de correction automatique. L'équipement est programmé pour effectuer des processus de préchauffage, d'exposition et de post-durcissement, ainsi que des processus de gravure. Le système photorésist UFP 200A est une unité fiable et efficace conçue pour reproduire et graver avec précision des structures à haute résolution sur différents substrats. Son interface conviviale et son large éventail de paramètres offrent un maximum de fonctionnalités tout en assurant des résultats précis. La conception robuste de la machine garantit des années de performances fiables, faisant de EBARA UFP 200A un excellent choix pour le traitement photorésist et microélectronique.
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