Occasion EBARA UFP 200A #9192490 à vendre en France

EBARA UFP 200A est un équipement de photorésistance entièrement automatisé qui a été conçu pour le dépôt de photorésist sur des plaquettes semi-conductrices. Il est capable de déposer et filer de la résine photosensible sur toute la surface de la plaquette sans intervention manuelle. Le système utilise un précurseur chimique spin-on pour déposer une couche uniforme de photorésist sur la plaquette. L'unité UFP 200A dispose d'une chambre de traitement en ligne conçue pour faciliter un revêtement uniforme de toute la surface de la plaquette. Sa machine de chauffage des plaquettes permet une plus grande précision dans la précision de la couche de résiste. L'outil comprend également un moniteur de vitesse et de temps de rotation intégré pour assurer une répartition uniforme de la couche de résine sur toute la surface de la plaquette. L'actif EBARA UFP 200A est également livré avec un module de cuisson de post-exposition intégré, qui fournit des températures de post-cuisson allant jusqu'à 200 ° C avec une répartition uniforme de la température sur l'ensemble de la plaquette. En outre, le modèle est livré avec un microscope à force atomique, permettant des mesures précises de l'épaisseur de résistance et de la rugosité de surface après exposition. L'équipement UFP 200A dispose également d'un système à pas fermé de haute précision pour l'alignement de la plaquette pendant le processus d'exposition. Cela garantit que l'exposition sera alignée avec précision dans les directions verticale et horizontale. De plus, l'unité dispose également d'un verrouillage de sécurité qui empêche la machine de démarrer le processus jusqu'à ce que la plaquette entière ait été correctement alignée. Cela garantit que le processus est exécuté avec précision et efficacité. Enfin, l'outil EBARA UFP 200A est conçu pour offrir un moyen simple et efficace d'explorer de nouveaux processus de photorésistance. L'actif est capable d'effectuer rapidement et avec précision les étapes de dépôt et de filage du processus, ce qui permet de raccourcir les délais d'exploration de nouvelles recettes photorésistantes.