Occasion EBARA UFP 200A #9198040 à vendre en France

EBARA UFP 200A est un équipement de traitement de photorésistance de pointe conçu pour répondre aux exigences haut de gamme de la production de photomasques. Il est capable de produire des caractéristiques de haute résolution et des largeurs de ligne inférieures à 4,5 μ m. Le système utilise une source de lumière laser à la longueur d'onde de 405 nm pour produire une image sur une couche de photorésist sur le matériau de substrat désiré. La photorésist est l'une des parties les plus importantes des procédés avancés de photolithographie, appliquée sur un substrat à motifs pour la fabrication de semi-conducteurs. UFP 200A utilise des technologies avancées de balayage des faisceaux, telles que le codage de scan et de ligne et des éléments d'image, qui permettent l'automatisation et la reproduction de haute précision des motifs. Cette unité est également équipée de capacités Industrie 4.0 qui permettent la constance des conditions de production même lorsque les conditions environnementales à l'extérieur du plancher de l'usine fluctuent. EBARA UFP 200A offre également une qualité d'image supérieure et une grande précision d'alignement ainsi qu'un contrôle précis des caractéristiques et de la largeur de ligne. UFP 200A dispose d'une distance de focalisation réglable qui permet l'utilisation de divers substrats tout en conservant le même degré de précision et de résolution. L'exposition multicouche est possible avec EBARA UFP 200A, qui a un axe de mouvement intégré qui permet un mouvement lisse du substrat entre les couches du film photorésist sans nécessité de positionnement externe. De plus, la machine possède une grande linéarité en raison de sa puissance laser constante qui maintient une résolution constante sur tout le champ de l'exposition. Pour des raisons de sécurité, UFP 200A est également équipé d'un outil de purification des vapeurs toxiques. Cet actif filtre les gaz dangereux pour assurer un environnement propre pendant que l'utilisateur fait fonctionner la machine. EBARA UFP 200A dispose également d'un modèle d'airbrake à action rapide qui assure un fonctionnement basé sur la précision avec un minimum de bruit et pratiquement aucune vibration, rendant la machine conforme aux normes les plus strictes. En conclusion, UFP 200A est une machine robuste et fiable conçue pour des processus de photolithographie avancés. Son automatisation et ses capacités avancées de balayage de mouvement ainsi que sa grande précision d'alignement et la qualité de l'image le rendent idéal pour la production de photomasques. En outre, son équipement d'épuration des vapeurs toxiques et son système d'airbrake offrent une flexibilité et une sécurité accrues. EBARA UFP 200A est un excellent choix pour ceux qui recherchent un traitement photorésist fiable et haut de gamme.