Occasion EBARA UFP 300A #9228100 à vendre en France

L'équipement de photorésistance EBARA UFP 300A est un modulateur haute performance ultra-précis pour des applications avancées de lithographie sans masque. Ce système permet l'imagerie à très haute résolution - jusqu'à la taille d'un micron - sur une grande surface d'un substrat. Il dispose de temps de réponse extrêmement rapides avec un temps de décantation de seulement 50 nanosecondes, permettant un positionnement précis et la régulation du faisceau d'imagerie. EBARA UFP-300A est contrôlé à l'aide d'une puissante unité basée sur FPGA qui permet un positionnement très efficace du faisceau de balayage ainsi que l'acquisition et le traitement des données. La machine utilise une photorésistance à haute sensibilité pour détecter la lumière ultra violette générée par le faisceau de balayage puis module le faisceau en conséquence pour obtenir la résolution souhaitée. Cet outil de photorésistance permet également un alignement automatique du faisceau de balayage pour assurer des expositions uniformes et à haute résolution sur toute la surface du substrat. UFP 300A est équipé de la dernière technologie de dépoussiérage, ce qui lui permet d'être exploité en salle blanche. L'atout est fourni avec une gamme d'accessoires, tels que des filtres et des collecteurs d'émissions, pour garantir un rendement et une qualité maximums. Le modèle est également équipé d'une gamme complète de dispositifs de sécurité, y compris des emboîtements pour éviter l'exposition accidentelle du substrat au faisceau. UFP-300A est conçu pour répondre à la demande des exigences les plus complexes de lithographie sans masque. Son équipement d'alignement de haute précision, associé à son temps de réponse ultra-rapide, permet une résolution extrêmement fine sur de grandes surfaces. Ceci en fait une solution idéale pour les procédés de fabrication nécessitant une extrême précision de photolithographie.