Occasion EDWARDS XE-200 #9070677 à vendre en France

EDWARDS XE-200 est un équipement de photorésistance conçu pour la production de motifs et de caractéristiques de haute précision sur les surfaces. Le système utilise la lumière pour modifier sélectivement les surfaces exposées. Une surface exposée est une surface revêtue d'une résine photosensible. Les systèmes photorésistants sont utilisés pour diverses applications, mais XE-200 est particulièrement bien adapté pour des modèles de ligne précis qui nécessitent un contrôle étroit de la tolérance. EDWARDS XE-200 est composé d'optiques avancées, y compris un microscope haute résolution et une lentille de balayage, ainsi qu'un réseau linéaire de LED pour l'éclairage. Le microscope a une plage de grossissement de 20x à 60x, tandis que la lentille de balayage a un champ de vue de 1,2 millimètre. La profondeur totale de champ réalisable avec les deux lentilles combinées est de 0,2 millimètre. Le tableau LED offre une couverture uniforme du champ de vision et offre quatre plages d'exposition préprogrammées. En plus de l'optique, XE-200 dispose d'un contrôle logiciel avancé. L'interface utilisateur intégrée facilite la configuration et l'ajustement des paramètres d'exposition. De plus, il permet un contrôle précis de la position de l'étage X-Y, permettant à l'utilisateur de déplacer la plate-forme rapidement et avec précision. Le logiciel permet également de personnaliser les profils du motif d'exposition, ce qui permet à la machine de reproduire le même motif en quelques clics de souris. Enfin, EDWARDS XE-200 utilise des techniques de masquage avancées pour contrôler précisément la forme et la taille de la surface exposée. Pour ce faire, on utilise des masques spécialisés qui suppriment certaines zones de la photorésist et en exposent d'autres. L'outil dispose également de plusieurs tailles de masques, lui permettant de créer des motifs plus complexes. Cette technique de masquage est particulièrement intéressante lorsque l'on cherche à créer des caractéristiques avec des tolérances très proches. Dans l'ensemble, XE-200 est un actif de haute performance photorésist conçu pour produire des motifs complexes et de haute précision sur les surfaces. Grâce à ses techniques avancées d'optique, de logiciel et de masquage, le modèle est capable de créer des modèles de ligne d'une résolution et d'une précision sans précédent. Que ce soit pour des applications industrielles ou scientifiques, EDWARDS XE-200 offre la meilleure précision possible dans la production de résines photosensibles.