Occasion EEJA / ELECTROPLATING ENGINEERS OF JAPAN Posfer-S4 #9099252 à vendre en France

ID: 9099252
Taille de la plaquette: 6"
Linear gold plating system, 6" Convertible to 8" Hardware: Cub4 storage.
EEJA Post-S4 est un équipement de photorésistance développé par Electropolating Engineers of Japan (ELECTROPLATING ENGINEERS OF JAPAN). Ce système est conçu pour être utilisé dans les opérations d'électrodéposition et de traitement chimique, fournissant des résultats photorésistants fiables et précis. L'unité fournit deux dispositifs d'exposition photorésist indépendants pour le contrôle de précision du temps d'exposition et l'uniformité, ce qui le rend adapté à divers processus de photorésistance. Cette machine est conçue pour des procédés de photorésistance simple et double face, et permet la réalisation de procédés de photorésistance haute tolérance et haute précision. Pour ce faire, il peut être pourvu d'un contrôle précis de la température et de l'humidité, d'un outil indépendant de réglage de la pression et d'un positionnement précis des dispositifs d'exposition. EEJA/ELECTROPLATING ENGINEERS OF JAPAN Post-S4 photoresist asset est capable d'obtenir des résultats de photorésistance reproductibles et uniformes grâce à l'utilisation d'une source lumineuse avec uniformité de contrôle de l'exposition et de compensation par balayage avec étalonnage en ligne. Cette uniformité est maintenue par l'utilisation d'un capteur photo avec une ligne de pas de 30 μ m en combinaison avec la source lumineuse afin de détecter et de contrôler avec précision le taux d'absorption. Ce modèle est conçu pour traiter un large éventail de substrats, de ceux qui nécessitent un niveau élevé de définition et de résolution à ceux qui nécessitent une modification minimale du substrat. En outre, il est en mesure de contrôler facilement la taille et la densité de la photorésist, et offre une gamme de modes d'exposition pour répondre aux exigences spécifiques du processus de photorésist. L'équipement photorésist EEJA Post-S4 est capable de traiter une grande variété de substrats, y compris le silicium, le verre et les métaux. Il assure des résultats photorésistants précis, avec une altération et une contamination minimales du substrat, ce qui en fait un choix idéal pour des applications précises et très tolérantes. De plus, sa conception automatisée lui permet d'être facilement relié à divers environnements et systèmes de fabrication, offrant ainsi aux utilisateurs une unité de production efficace.
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